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公开(公告)号：CN119470348A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411575267.3
申请日：2024-11-06
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限的布里渊散射显微成像方法和系统，利用泵浦‑探测的方式激发样品表面或内部的受激布里渊散射，并基于受激布里渊散射机制，利用光场调控改变布里渊增益在探测光斑内的空间分布，通过点扩散函数改造、结构光照明或高阶布里渊散射实现空间超衍射成像与布里渊散射光谱测量的统一，最终实现对样品的非接触式、超衍射极限布里渊散射显微成像。
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公开(公告)号：CN119024652B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411506951.6
申请日：2024-10-28
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨无掩膜曝光装置及方法。本发明利用数字微镜器件，实现独立激光点开关的调控，调控速度可到kHz，为快速加工奠定基础。本发明充分利用数字微镜器件的大规模矩阵式像素，形成超百万点的激光直写作用点阵列，能够快速完成大面积复杂结构的刻写。本发明将数字微镜器件中的最小像素单元进一步通过微透镜阵列聚焦成更小的作用点，并利用双色双步吸收效应，实现超过衍射极限的高刻写分辨率。本发明可以快速特异性调控的激光点阵列，作用于材料上实现双色双步吸收效应，可以为快速、高精度、可实现大面积复杂结构直写的无掩膜曝光系统的实现提供必要技术基础。
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公开(公告)号：CN119378627A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411472060.3
申请日：2024-10-21
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
Abstract: 本申请涉及一种光子神经网络装置、光子神经网络的训练方法及芯片。所述方法包括：输入层，包括至少一个输入单元，用于接收多路输入电信号，对多路所述输入电信号进行光偏振编码输出对应的光信号；隐含层，与输入层连接，包括多个依次连接的隐含模块，所述隐含模块包括至少一个隐含单元，与对应的输入单元连接，用于获取各光信号的不同偏振状态，对每一路的光信号进行偏振调节输出对应的光偏振调节信号；输出层，包括至少一路输出单元，与对应的隐含单元连接，用于对各光偏振调节信号进行偏振方向上的光强分离，得到多路输出电信。采用本装置实现了神经网络低功耗高并行性的高速计算和信号处理，显著提高神经网络的计算速度，节约计算资源和能源。
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公开(公告)号：CN119270597A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411804136.8
申请日：2024-12-10
Applicant: 浙江大学
Abstract: 基于双光子与受激辐射损耗效应的超分辨激光直写与成像方法和装置，其方法包括：在光刻胶中加入光引发剂，利用其双光子吸收效应与受激损耗效应，实现双光子STED高精度微纳结构激光直写；同时，利用其本身的荧光发光特性，利用其双光子吸收特性和受激损耗（STED）特性，对所刻写的结构进行双光子STED超分辨显微成像。本发明利用引发剂的双光子与STED效应，可同时实现超分辨刻写与成像，简化了光刻胶的成分。此外，在刻写与成像中可分别利用相同的激发光与损耗光，因此可在一个光学系统中同时实现高精度刻写与超分辨成像，通过刻写与成像的激发光和损耗光光路进行复用，可有效简化系统复杂性。
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公开(公告)号：CN119224992A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202411601278.4
申请日：2024-11-11
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于主动液晶偏振光栅的二维微分干涉定量相位显微成像系统。本发明基于主动液晶光栅强大的光场调控能力，通过特殊的光路设计，能够实现二维定量DIC成像，解决了传统DIC系统只能沿一个方向非线性成像的问题；本发明采用体积较小的液晶光栅来替代传统DIC系统中的体积较大的光学折射元件，实现了更加紧凑的光路设计，符合当前对于小型化、轻量化的光学器件的需求，易于集成到其它显微成像设备中，实现多模态成像，极大拓展了其应用范围；本发明采用主动液晶光栅，通过外部电路来控制液晶分子的状态，能够实现成像模式在明场成像与二维定量DIC成像之间的快速切换，满足不同条件下对样品观察的需求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119024652A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411506951.6
申请日：2024-10-28
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨无掩膜曝光装置及方法。本发明利用数字微镜器件，实现独立激光点开关的调控，调控速度可到kHz，为快速加工奠定基础。本发明充分利用数字微镜器件的大规模矩阵式像素，形成超百万点的激光直写作用点阵列，能够快速完成大面积复杂结构的刻写。本发明将数字微镜器件中的最小像素单元进一步通过微透镜阵列聚焦成更小的作用点，并利用双色双步吸收效应，实现超过衍射极限的高刻写分辨率。本发明可以快速特异性调控的激光点阵列，作用于材料上实现双色双步吸收效应，可以为快速、高精度、可实现大面积复杂结构直写的无掩膜曝光系统的实现提供必要技术基础。
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公开(公告)号：CN118795737A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202410827223.9
申请日：2024-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于电光高速移相的干涉超分辨光刻系统和方法，该干涉超分辨光刻系统通过分别对两束相位调控后的激光进行偏振方向调控，使得两束激光的偏振方向相同，以保证最高对比例度的干涉条纹，减少干涉条纹图案中的伪影，并通过对偏振方向相同的两束激光束的径向相对位置进行调控，从而能够实现对干涉条纹周期方向的灵活调控；本发明还通过对分束的两束激光的相位差进行调控，从而实现对干涉条纹的位置进行灵活调控；基于对干涉条纹的周期方向和位置的灵活调控，从而能够灵活实现各类微结构表面形貌和排列。
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公开(公告)号：CN118778380A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202411280459.1
申请日：2024-09-13
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法，该装置通过对微透镜阵列和数字微镜阵列的协同调控得到强度均一的焦点阵列，还通过像旋模块控制并行直写光斑阵列的旋向角度，通过控制旋向角度和刻线间距实现高精度的灰度刻写。该方法能够根据实际的灰度刻写需求调整设备的刻写策略，且刻写曝光过程位移台仅需保持匀速扫描，节省了平台重复加减速的时间，同时充分利用了飞秒激光光斑的入瞳能量，使得该方法兼具高通量大面积与2.5D高精度灰度刻写的优势，具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN118244445B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410660267.7
申请日：2024-05-27
Abstract: 本发明公开了一种定力矩止动的高精度物镜对焦装置及对焦方法，该装置包括主体固定框架、压电驱动器、电动止推杆、止动活动块、止动部件底座、止动滑动块、主体滑动框架、弹簧柱塞、编码器、光栅尺、升降电机、升降连接器、行程挡块、行程开关等部件。该装置为一种小型化的集成物镜对焦装置，兼顾大范围运动行程与小范围运动精度，并配合行程开关和编码器光栅尺等部件实现闭环绝对位置控制和检测；且使用一种基于杠杆的固定力矩装置进行物镜升降止动，在止动时实现固定的止动力，根据安装的物镜重量进行预设，在失电时能保持止动。利用本发明装置及方法搭建的物镜对焦装置，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN118584765A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202410827207.X
申请日：2024-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于电光偏摆移相与同步像旋的干涉光刻系统和方法，本发明通过控制激光相位与空间分布调制模块实现对两路偏振光的相位的调制，从而能够灵活调控干涉条纹的位置，还能够通过改变两路偏振光的光束角度来调制平行出射的两束激光束的间距，从而能够灵活调控干涉条纹的排列周期，本发明还通过控制像旋模块实现对两束激光束的可控旋转，从而能够灵活调控干涉条纹的周期方向，综上，本发明能够实现对干涉图案的灵活调控。由于本发明调控的模块较少，仅控制激光相位与空间分布调制模块和像旋模块，因此在调控过程中所引起的误差较少，从而调控的准确性较高。
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