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公开(公告)号：CN117031884A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311021903.3
申请日：2023-08-15
Abstract: 本申请涉及一种基于飞秒激光时空同步聚焦的线光场扫描刻写装置和方法，所述装置包括：包括按光前进方向依次设置的飞秒激光光源、一维扩束系统、光栅光阀、成像系统和位移台；飞秒激光光源用于发射飞秒激光至一维扩束系统；一维扩束系统用于将飞秒激光的光斑扩束为一维线形光斑后垂直入射至光栅光阀的表面；光栅光阀用于对一维线形光斑进行调制并将得到的一级衍射光发射至成像系统；成像系统用于将一级衍射光在成像系统的物镜焦面上进行时空同步聚焦，输出线形光场对待刻写目标进行刻写。采用本装置能够结合飞秒激光和光栅光阀进行线扫描刻写，提升刻写精度，实现任意复杂结构大面积高速扫描刻写和大面积高均匀结构、连续灰度结构的快速加工。
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公开(公告)号：CN113909698B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202111248661.2
申请日：2021-10-26
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，包括步骤：1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；2)基于多通道声光调制器输出刻写波形，首先只输出第Nbeams束光的刻写波形；3)经过n次扫描后开始输出第Nveams‑1束光的刻写波形；4)再经过n次扫描后开始输出第Nbeams‑2束光的刻写波形；5)重复步骤3)‑4)直到所有光束波形都开始输出。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。
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公开(公告)号：CN115327867B
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211253404.2
申请日：2022-10-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。
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公开(公告)号：CN115046744A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210975776.X
申请日：2022-08-15
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于SLM生成光斑点阵的焦面检测及调倾方法与装置，所述方法在SLM上加载n×n圆形点阵，入射光束依次经过三角棱镜第一反射面、SLM、三角棱镜第二反射面、二分之一波片、偏振分束镜、四分之一波片、透镜、物镜，入射到样品表面；经样品表面反射后，反射光依次经过物镜、透镜、四分之一波片和偏振分束镜后，分束为第一光束和第二光束；其中，第一光束入射到第一CCD相机进行成像，第二光束入射到第二CCD相机进行成像，记录两个CCD相机上的光斑点阵的直径；基于两光斑点阵的直径的差值计算离焦量，进而获得焦点位置；并计算样品的倾斜度，从而对焦面进行调倾。本发明解决焦面倾斜问题，装置简单，成本低。
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公开(公告)号：CN113960892A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111248690.9
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置，本发明装置利用像旋转器对多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明基于上述五种不同扫描策略，有效解决了现有并行激光直写由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。本发明针对不同应用，使用不同扫描策略，实现扫描速度与扫描质量的双重提升。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113960891A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111248686.2
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑；然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑；再基于多通道声光调制器输出刻写波形，位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写，关闭光开关，位移台进行一次步进移动；直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。同时，基于边缘光抑制原理获得超分辨效果，提升了现有双光子激光直写光刻的刻写精度。
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公开(公告)号：CN113909698A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111248661.2
申请日：2021-10-26
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，包括步骤：1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；2)基于多通道声光调制器输出刻写波形，首先只输出第Nbeams束光的刻写波形；3)经过n次扫描后开始输出第Nveams‑1束光的刻写波形；4)再经过n次扫描后开始输出第Nbeams‑2束光的刻写波形；5)重复步骤3)‑4)直到所有光束波形都开始输出。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。
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公开(公告)号：CN112882184A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202110061579.2
申请日：2021-01-18
Abstract: 本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。
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公开(公告)号：CN119270597B
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411804136.8
申请日：2024-12-10
Applicant: 浙江大学
Abstract: 基于双光子与受激辐射损耗效应的超分辨激光直写与成像方法和装置，其方法包括：在光刻胶中加入光引发剂，利用其双光子吸收效应与受激损耗效应，实现双光子STED高精度微纳结构激光直写；同时，利用其本身的荧光发光特性，利用其双光子吸收特性和受激损耗（STED）特性，对所刻写的结构进行双光子STED超分辨显微成像。本发明利用引发剂的双光子与STED效应，可同时实现超分辨刻写与成像，简化了光刻胶的成分。此外，在刻写与成像中可分别利用相同的激发光与损耗光，因此可在一个光学系统中同时实现高精度刻写与超分辨成像，通过刻写与成像的激发光和损耗光光路进行复用，可有效简化系统复杂性。
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公开(公告)号：CN113960892B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202111248690.9
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置，本发明装置利用像旋转器对多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明基于上述五种不同扫描策略，有效解决了现有并行激光直写由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。本发明针对不同应用，使用不同扫描策略，实现扫描速度与扫描质量的双重提升。
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