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公开(公告)号：CN118584765B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202410827207.X
申请日：2024-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于电光偏摆移相与同步像旋的干涉光刻系统和方法，本发明通过控制激光相位与空间分布调制模块实现对两路偏振光的相位的调制，从而能够灵活调控干涉条纹的位置，还能够通过改变两路偏振光的光束角度来调制平行出射的两束激光束的间距，从而能够灵活调控干涉条纹的排列周期，本发明还通过控制像旋模块实现对两束激光束的可控旋转，从而能够灵活调控干涉条纹的周期方向，综上，本发明能够实现对干涉图案的灵活调控。由于本发明调控的模块较少，仅控制激光相位与空间分布调制模块和像旋模块，因此在调控过程中所引起的误差较少，从而调控的准确性较高。
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公开(公告)号：CN118795737B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202410827223.9
申请日：2024-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于电光高速移相的干涉超分辨光刻系统和方法，该干涉超分辨光刻系统通过分别对两束相位调控后的激光进行偏振方向调控，使得两束激光的偏振方向相同，以保证最高对比度的干涉条纹，减少干涉条纹图案中的伪影，并通过对偏振方向相同的两束激光束的径向相对位置进行调控，从而能够实现对干涉条纹周期方向的灵活调控；本发明还通过对分束的两束激光的相位差进行调控，从而实现对干涉条纹的位置进行灵活调控；基于对干涉条纹的周期方向和位置的灵活调控，从而能够灵活实现各类微结构表面形貌和排列。
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公开(公告)号：CN117784532A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311794572.7
申请日：2023-12-25
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种大面积相位型计算全息图的制备系统和制备方法。本发明大面积相位型计算全息图的制备方法通过设计搭建了一种大面积相位型计算全息图的制备系统，通过光刻胶激发光路中微镜阵列和微透镜阵列的设计使用，产生万束激光并行刻写，实现100mm/s的等效刻写速度，每个光束的横向最小特征尺寸达到50nm，能够实现刻写制造大面积相位型计算全息图。设计的大面积相位型计算全息图采用类光子筛结构，与传统波带片形式的计算全息图相比，能够大幅度提升面型检测的精确度，实现极紫外光刻物镜的高精度非球面面形检测。
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公开(公告)号：CN115330672A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202210564297.9
申请日：2022-05-23
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘识别与相位分层的靶丸干涉图解包裹方法，包括：(1)对输入的靶丸干涉包裹图进行边缘提取，提取出每一层相位层之间的边缘；(2)选取各相位层的起始点，得到每层相位层起始点序列S(n)，并进行去噪处理；(3)遍历选取的起始序列点S(n)，对每一个起始点进行广度优先搜索，识别出其所在的整个相位层，并记录下搜索到的像素的相位层数；(4)对识别出的相位层做整体相位移动，纠正相位矩阵中残余的跳变点，由此得到解包裹相位φ。利用本发明，能够快速且精确地对靶丸干涉图图像解包裹。
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公开(公告)号：CN117289563B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202311592943.3
申请日：2023-11-27
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种振幅型计算全息图实现装置及方法。本发明利用边缘光抑制的超分辨激光直写实现用于极紫外光刻物镜装调的大面积振幅型计算全息图克服了激光直写技术刻写精度的不足，对比电子束直写有着更高的效率，有着操作简便、成本低廉等优势。通过补偿模块在刻写中实时进行光功率与相位调制补偿，保证了刻写系统在刻写大面积振幅型计算全息图长时间工作的稳定性与刻写精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118778380B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411280459.1
申请日：2024-09-13
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法，该装置通过对微透镜阵列和数字微镜阵列的协同调控得到强度均一的焦点阵列，还通过像旋模块控制并行直写光斑阵列的旋向角度，通过控制旋向角度和刻线间距实现高精度的灰度刻写。该方法能够根据实际的灰度刻写需求调整设备的刻写策略，且刻写曝光过程位移台仅需保持匀速扫描，节省了平台重复加减速的时间，同时充分利用了飞秒激光光斑的入瞳能量，使得该方法兼具高通量大面积与2.5D高精度灰度刻写的优势，具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN117289563A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311592943.3
申请日：2023-11-27
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种振幅型计算全息图实现装置及方法。本发明利用边缘光抑制的超分辨激光直写实现用于极紫外光刻物镜装调的大面积振幅型计算全息图克服了激光直写技术刻写精度的不足，对比电子束直写有着更高的效率，有着操作简便、成本低廉等优势。通过补偿模块在刻写中实时进行光功率与相位调制补偿，保证了刻写系统在刻写大面积振幅型计算全息图长时间工作的稳定性与刻写精度。
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公开(公告)号：CN118795737A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202410827223.9
申请日：2024-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于电光高速移相的干涉超分辨光刻系统和方法，该干涉超分辨光刻系统通过分别对两束相位调控后的激光进行偏振方向调控，使得两束激光的偏振方向相同，以保证最高对比例度的干涉条纹，减少干涉条纹图案中的伪影，并通过对偏振方向相同的两束激光束的径向相对位置进行调控，从而能够实现对干涉条纹周期方向的灵活调控；本发明还通过对分束的两束激光的相位差进行调控，从而实现对干涉条纹的位置进行灵活调控；基于对干涉条纹的周期方向和位置的灵活调控，从而能够灵活实现各类微结构表面形貌和排列。
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公开(公告)号：CN118778380A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202411280459.1
申请日：2024-09-13
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法，该装置通过对微透镜阵列和数字微镜阵列的协同调控得到强度均一的焦点阵列，还通过像旋模块控制并行直写光斑阵列的旋向角度，通过控制旋向角度和刻线间距实现高精度的灰度刻写。该方法能够根据实际的灰度刻写需求调整设备的刻写策略，且刻写曝光过程位移台仅需保持匀速扫描，节省了平台重复加减速的时间，同时充分利用了飞秒激光光斑的入瞳能量，使得该方法兼具高通量大面积与2.5D高精度灰度刻写的优势，具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN118584765A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202410827207.X
申请日：2024-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于电光偏摆移相与同步像旋的干涉光刻系统和方法，本发明通过控制激光相位与空间分布调制模块实现对两路偏振光的相位的调制，从而能够灵活调控干涉条纹的位置，还能够通过改变两路偏振光的光束角度来调制平行出射的两束激光束的间距，从而能够灵活调控干涉条纹的排列周期，本发明还通过控制像旋模块实现对两束激光束的可控旋转，从而能够灵活调控干涉条纹的周期方向，综上，本发明能够实现对干涉图案的灵活调控。由于本发明调控的模块较少，仅控制激光相位与空间分布调制模块和像旋模块，因此在调控过程中所引起的误差较少，从而调控的准确性较高。
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