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公开(公告)号：CN109415800B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201780039108.3
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种可尽量减少粒子的影响的所谓向下沉积方式的真空蒸镀装置。其具有配置在真空室(1)内的蒸镀源(3)，蒸镀源具有容置蒸镀物质(Vm)的容置箱(31)和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置(33)；容置箱中设置有升华或气化了的蒸镀物质的喷出部(32)，喷出部相对于真空室内的被成膜物(S)位于垂直方向上方，喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口(32b)，从该喷出口向被成膜物喷出蒸镀物质，容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。
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公开(公告)号：CN117157424A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202180090775.0
申请日：2021-12-21
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其中，当以感应加热方式加热填充有蒸镀物质的坩埚时，包括盖体的坩埚整体呈顶热状态。蒸镀源(DS1)具备：坩埚(4)，其填充有蒸镀物质(Vm)；盖体(5)，其堵塞坩埚的上表面开口(4a)；以及感应加热线圈(6)，其配置在坩埚和盖体周围；在盖体上设置有放出部(51a)，其允许由加热而气化或升华的蒸镀物质通过；在盖体的外表面上设置有具有角部的突条(52b)。
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公开(公告)号：CN110573647A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201880027546.2
申请日：2018-04-25
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及一种蒸发源，其具有蒸发源容器、加热装置、第一热屏蔽板以及第二热屏蔽板。蒸发源容器具有容器主体和多个喷嘴，该容器主体具有顶面并收容薄膜材料，该喷嘴与容器主体连结并从顶面突出而配置在单轴方向，该喷嘴具有放出薄膜材料的气化物质的开口部。加热装置加热容器主体。第一热屏蔽板与顶面分离地相向配置并具有多个第一开口部，该第一开口部具有比多个喷嘴的每一个对应设置的被喷嘴贯通的喷嘴的开口部大的第一开口区域。第二热屏蔽板在容器主体与第一热屏蔽板之间分别固定于多个喷嘴且与顶面分离地相向配置，并具有被喷嘴贯通的第二开口部，该第二开口部具有比第一开口区域大的外形。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110573647B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN201880027546.2
申请日：2018-04-25
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及一种蒸发源，其具有蒸发源容器、加热装置、第一热屏蔽板以及第二热屏蔽板。蒸发源容器具有容器主体和多个喷嘴，该容器主体具有顶面并收容薄膜材料，该喷嘴与容器主体连结并从顶面突出而配置在单轴方向，该喷嘴具有放出薄膜材料的气化物质的开口部。加热装置加热容器主体。第一热屏蔽板与顶面分离地相向配置并具有多个第一开口部，该第一开口部具有比多个喷嘴的每一个对应设置的被喷嘴贯通的喷嘴的开口部大的第一开口区域。第二热屏蔽板在容器主体与第一热屏蔽板之间分别固定于多个喷嘴且与顶面分离地相向配置，并具有被喷嘴贯通的第二开口部，该第二开口部具有比第一开口区域大的外形。
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公开(公告)号：CN111108230A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201980004684.3
申请日：2019-05-08
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其在蒸镀升华性材料时，可增加每单位时间的升华量，对被蒸镀物的蒸镀率高。本发明的真空蒸镀装置(Dm)用蒸镀源(DS)，其是配置在真空室(1)内，用于使升华性有机材料(7)升华并对被蒸镀物(Sw)进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸镀源，其具有：上表面开口(4)，其具有朝向被蒸镀物(Sw)喷出升华的材料的坩埚(41)；筒状体(5)，其与该上表面开口(4)的壁面留出间隔地插入上表面开口(4)中并收纳升华性材料；以及加热单元(Ht)，其可加热筒状体(5)内的材料；筒状体(5)上开设有容许升华的材料连通的多个网眼(52)。
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公开(公告)号：CN116746298A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202180089399.3
申请日：2021-12-07
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其在使蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀时，能够增加每单位时间的蒸发量，对被蒸镀物的蒸镀速率高。本发明的真空蒸镀装置(Dm)用蒸镀源(DS)配置在真空室内(1)，用于使固体的蒸镀物质蒸发而对被蒸镀物进行蒸镀，具备：坩埚(4)，其可收纳蒸镀物质(Ms)，具有将蒸发的蒸镀物质向被蒸镀物(Sw)放出的放出口(41)；以及加热装置(6)，其可加热坩埚内的蒸镀物质；在坩埚内具备蒸发促进部(5)，该蒸发促进部(5)设置为一部分(5a)被通过加热而熔化的蒸镀物质(Ml)浸渍，并且其剩余部分(5b)距离坩埚内表面(42)留有间隙(D1)地设置。
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公开(公告)号：CN109415800A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780039108.3
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种可尽量减少粒子的影响的所谓向下沉积方式的真空蒸镀装置。其具有配置在真空室(1)内的蒸镀源(3)，蒸镀源具有容置蒸镀物质(Vm)的容置箱(31)和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置(33)；容置箱中设置有升华或气化了的蒸镀物质的喷出部(32)，喷出部相对于真空室内的被成膜物(S)位于垂直方向上方，喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口(32b)，从该喷出口向被成膜物喷出蒸镀物质，容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。
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公开(公告)号：CN1950536A
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200580013553.X
申请日：2005-05-13
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种可对大型基板进行膜厚分布均匀的成膜、并可准确且响应性良好地进行蒸镀时加热温度和蒸发速度的控制的有机材料用蒸发源及采用该蒸发源的有机蒸镀装置。本发明的蒸发源具有容器主体部(31a)和盖部(31b)，所述容器主体部具有由高频感应线圈(50)构成的加热部，并用于容纳既定的有机材料，所述盖部具有用于使该有机材料的蒸气通过的蒸发口(31c)。从盖部(31b)的蒸发口(31c)放出的有机材料的蒸气量，就二维位置而言，以既定的基准位置为基准呈逐渐扩展状增加。
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