Patent search ap:("株式会社爱发科") AND inv:"梅原政司" Page 1

1.

发明公开
真空蒸镀装置用蒸镀源审中-实审

公开(公告)号：CN117157424A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202180090775.0

申请日：2021-12-21

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 梅原政司 , 若松宏典 , 中村寿充 , 柳堀文嗣

IPC: C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其中，当以感应加热方式加热填充有蒸镀物质的坩埚时，包括盖体的坩埚整体呈顶热状态。蒸镀源(DS1)具备：坩埚(4)，其填充有蒸镀物质(Vm)；盖体(5)，其堵塞坩埚的上表面开口(4a)；以及感应加热线圈(6)，其配置在坩埚和盖体周围；在盖体上设置有放出部(51a)，其允许由加热而气化或升华的蒸镀物质通过；在盖体的外表面上设置有具有角部的突条(52b)。

Patent Agency Ranking