-
公开(公告)号：CN109898060A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201811495423.X
申请日：2018-12-07
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置，其能够将基板、蒸镀掩模等调整对象的温度和目标温度的差异减小。基板(W)和蒸镀掩模(M)的至少一方是温度的调整对象，蒸镀装置具备：电阻加热器(22)，其以与调整对象热接触的方式对调整对象的温度进行调整；以及温度调整部(33)，其基于调整对象的温度来控制向电阻加热器(22)供给的电流。比被搬入到真空槽(16)时的调整对象的温度高的温度是调整对象的目标温度。温度调整部(33)将蒸镀材料从蒸镀源(11)放出时的目标温度设定成仅通过电阻加热器(22)的热量供给和该热量供给的停止而到达的温度。
-
公开(公告)号：CN109609901B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201811108141.X
申请日：2018-09-21
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 提供一种能够对基板的位置提高检测精度的位置检测装置及蒸镀装置。位置检测装置(10)具备：拍摄部(11)，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由基板(W)的平坦部(Wp1)反射的光形成，该第2像基于由与平坦部(Wp1)连接的斜面部(Wp2)反射的光形成；以及图像处理部(12)，其基于第1像和第2像的对比度提取平坦部(Wp1)和斜面部(Wp2)的边界作为基板(W)的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定基板(W)的位置。
-
公开(公告)号：CN100547807C
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200710110869.1
申请日：2007-06-12
IPC: H01L29/43 , H01L29/45 , H01L29/739 , H01L21/28 , H01L21/331
CPC classification number: H01L29/7397 , H01L24/05 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/83 , H01L29/41708 , H01L2924/1305 , H01L2924/13055 , H01L2924/1306 , H01L2924/13091 , H01L2924/15787 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供了一种半导体器件，包括：硅衬底，其具有用于将所述硅衬底焊接到陶瓷衬底上的表面；和电极，其与所述硅衬底的所述表面进行接触。所述电极包括：第一导体层、第二导体层和第三导体层。第一导体层与所述硅衬底的所述表面进行接触，并包括铝和硅。第二导体层与第一导体层进行接触，并包括钛。第三导体层通过第二导体层而与第一导体层分离，并包括镍。
-
公开(公告)号：CN117157424A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202180090775.0
申请日：2021-12-21
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源，其中，当以感应加热方式加热填充有蒸镀物质的坩埚时，包括盖体的坩埚整体呈顶热状态。蒸镀源(DS1)具备：坩埚(4)，其填充有蒸镀物质(Vm)；盖体(5)，其堵塞坩埚的上表面开口(4a)；以及感应加热线圈(6)，其配置在坩埚和盖体周围；在盖体上设置有放出部(51a)，其允许由加热而气化或升华的蒸镀物质通过；在盖体的外表面上设置有具有角部的突条(52b)。
-
公开(公告)号：CN109609901A
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201811108141.X
申请日：2018-09-21
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 提供一种能够对基板的位置提高检测精度的位置检测装置及蒸镀装置。位置检测装置(10)具备：拍摄部(11)，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由基板(W)的平坦部(Wp1)反射的光形成，该第2像基于由与平坦部(Wp1)连接的斜面部(Wp2)反射的光形成；以及图像处理部(12)，其基于第1像和第2像的对比度提取平坦部(Wp1)和斜面部(Wp2)的边界作为基板(W)的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定基板(W)的位置。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109554662A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201810679701.0
申请日：2018-06-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供能够提高基板位置的检测精度的位置检测装置、位置检测方法以及蒸镀装置。图像处理部(20)根据正面摄像部的各照相机(11)对基板标记(Wm)进行摄像的结果算出正面摄像部的照相机(11)间的相对位置，并使用该照相机(11)间的相对位置和正面摄像部的各照相机(11)对处理基板(W)进行摄像的结果算出基于正面摄像的处理基板(W)的位置，并且根据背面摄像部的各照相机(12)对基板标记(Wm)的透射图像进行摄像的结果算出背面摄像部的照相机(12)间的相对位置，并使用该照相机(12)间的相对位置和背面摄像部的各照相机(12)对处理基板(W)进行摄像的结果算出基于背面摄像的处理基板(W)的位置。
-
公开(公告)号：CN109898060B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201811495423.X
申请日：2018-12-07
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置，其能够将基板、蒸镀掩模等调整对象的温度和目标温度的差异减小。基板(W)和蒸镀掩模(M)的至少一方是温度的调整对象，蒸镀装置具备：电阻加热器(22)，其以与调整对象热接触的方式对调整对象的温度进行调整；以及温度调整部(33)，其基于调整对象的温度来控制向电阻加热器(22)供给的电流。比被搬入到真空槽(16)时的调整对象的温度高的温度是调整对象的目标温度。温度调整部(33)将蒸镀材料从蒸镀源(11)放出时的目标温度设定成仅通过电阻加热器(22)的热量供给和该热量供给的停止而到达的温度。
-
公开(公告)号：CN109554662B
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201810679701.0
申请日：2018-06-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供能够提高基板位置的检测精度的位置检测装置、位置检测方法以及蒸镀装置。图像处理部(20)根据正面摄像部的各照相机(11)对基板标记(Wm)进行摄像的结果算出正面摄像部的照相机(11)间的相对位置，并使用该照相机(11)间的相对位置和正面摄像部的各照相机(11)对处理基板(W)进行摄像的结果算出基于正面摄像的处理基板(W)的位置，并且根据背面摄像部的各照相机(12)对基板标记(Wm)的透射图像进行摄像的结果算出背面摄像部的照相机(12)间的相对位置，并使用该照相机(12)间的相对位置和背面摄像部的各照相机(12)对处理基板(W)进行摄像的结果算出基于背面摄像的处理基板(W)的位置。
-
公开(公告)号：CN107893213B
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201710891342.0
申请日：2017-09-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本申请提供一种可以相互交换的炉床单元、蒸发源以及成膜装置。本发明的一个方面的炉床单元具备炉床主体、至少1个第一炉床模块以及至少1个第二炉床模块。炉床主体具有各自包括冷却用的第一通路的多个区域。第一炉床模块具有第一容纳部和第一安装部。第一容纳部容纳第一蒸镀材料，并具有第二通路。第一安装部设置在多个区域的一部分，并具有使第二通路与第一通路连通的第三通路。第二炉床模块具有第二容纳部和第二安装部。第二容纳部容纳第二蒸镀材料。第二安装部设置在多个区域的另一部分，并切断第二容纳部与第一通路的连通，并且对于多个区域的各个区域，与第一安装部具有互换形状。
-
公开(公告)号：CN107893213A
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201710891342.0
申请日：2017-09-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本申请提供一种可以相互交换的炉床单元、蒸发源以及成膜装置。本发明的一个方面的炉床单元具备炉床主体、至少1个第一炉床模块以及至少1个第二炉床模块。炉床主体具有各自包括冷却用的第一通路的多个区域。第一炉床模块具有第一容纳部和第一安装部。第一容纳部容纳第一蒸镀材料，并具有第二通路。第一安装部设置在多个区域的一部分，并具有使第二通路与第一通路连通的第三通路。第二炉床模块具有第二容纳部和第二安装部。第二容纳部容纳第二蒸镀材料。第二安装部设置在多个区域的另一部分，并切断第二容纳部与第一通路的连通，并且对于多个区域的各个区域，与第一安装部具有互换形状。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.02 seconds)
