电气元件封装体
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102893700A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201180024088.5

    申请日:2011-09-30

    Abstract: 有机EL元件封装体(1),其在内部空间气密密封有有机EL层(2),所述有机EL元件封装体(1)具有:配置有有机EL层(2)的元件基板(3)、与元件基板(3)的有机EL层(2)侧的表面隔着间隔对置的密封基板(4)、按照包围有机EL层(2)的周围的方式对元件基板(3)和密封基板(4)之间的间隙进行气密密封的玻璃料(5)、以及配置于元件基板(3)和玻璃料(5)之间且用于保护电极不受熔接玻璃料(5)时所照射的激光的影响的保护膜。并且,保护膜例如为发挥用于反射激光的反射膜功能的介电体多层膜(8),该介电体多层膜(8)由低折射率介电体层和高折射率介电体层交替层叠而成的层叠结构构成。

    宽波段反射镜
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102112897B

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN200980129874.4

    申请日:2009-06-30

    Abstract: 本发明在于得到一种在波长400nm~2500nm的波段内具有高反射率且耐热性以及防刮性优异的宽波段反射镜。该宽波段反射镜(1)用于反射波长400nm~2500nm的波段的光,特征在于:具备使第1高折射率材料层和第1低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm~2500nm的波段中的靠短波长侧的波段的光的第1反射叠层膜(3)和使第2高折射率材料层和第2低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm~2500nm的波段中的靠长波长侧的波段的光的第2反射叠层膜(4),第1反射叠层膜(3)设置于光的入射侧,第2反射叠层膜(4)设置于能够反射从第1反射叠层膜(3)透过的光的位置,且第1高折射率材料层由选自氧化铌、氧化钛、氧化锆、氧化钽、氧化铪、氮化硅、氧化钇和铟锡氧化物中的至少一种材料形成,第1低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成,第2高折射率材料层由选自硅和锗中的至少一种材料形成,第2低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成。

    宽波段反射镜
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102112897A

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN200980129874.4

    申请日:2009-06-30

    Abstract: 本发明在于得到一种在波长400nm~2500nm的波段内具有高反射率且耐热性以及防刮性优异的宽波段反射镜。该宽波段反射镜(1)用于反射波长400nm~2500nm的波段的光,特征在于:具备使第1高折射率材料层和第1低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm~2500nm的波段中的靠短波长侧的波段的光的第1反射叠层膜(3)和使第2高折射率材料层和第2低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm~2500nm的波段中的靠长波长侧的波段的光的第2反射叠层膜(4),第1反射叠层膜(3)设置于光的入射侧,第2反射叠层膜(4)设置于能够反射从第1反射叠层膜(3)透过的光的位置,且第1高折射率材料层由选自氧化铌、氧化钛、氧化锆、氧化钽、氧化铪、氮化硅、氧化钇和铟锡氧化物中的至少一种材料形成,第1低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成,第2高折射率材料层由选自硅和锗中的至少一种材料形成,第2低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成。

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