公开(公告)号：CN116323100A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180064768.3

申请日：2021-09-29

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 川村佳秀 ,  立野哲平 ,  松冈立马 ,  栗原浩 ,  鸣岛早月 ,  高见沢大和 ,  越智惠介 ,  川崎哲明

IPC: B24B37/24

Abstract: 本发明的目的在于，提供无需变更研磨层的物性、气泡结构就能够实现端部塌边的改善和/或台阶消除性能的提高的研磨垫。一种研磨垫，其具备：研磨层，该研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面；以及缓冲层，该缓冲层配置于所述研磨层的与研磨面相反一侧，关于通过以弯曲模式利用于25℃的频散进行的动态粘弹性试验得到的、研磨垫整体的储能弹性模量E’和损耗弹性模量E”之比(tanδ)，以100～1000rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax100‑1000)相对于以1～10rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax1‑10)的比值为0.75～1.30。

公开(公告)号：CN116867606A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202280015279.3

申请日：2022-03-29

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 立野哲平 ,  栗原浩 ,  山口早月 ,  高见沢大和 ,  越智恵介 ,  川崎哲明

IPC: B24B37/24

Abstract: 一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂，所述研磨垫中，通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下，或者，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6～3.1，通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5～0.9。

公开(公告)号：CN116887946A

公开(公告)日：2023-10-13

申请号：CN202280015335.3

申请日：2022-03-18

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 川村佳秀 ,  立野哲平 ,  栗原浩 ,  山口早月 ,  高见沢大和 ,  越智恵介 ,  川崎哲明

IPC: B24B37/24

Abstract: 一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体包含异氰酸酯末端预聚物与硬化剂，所述研磨垫中，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)的比(NC80/NC40)为1.5～2.5。