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发明公开
一种具有快速响应速度的铪基铁电叠层结构及其制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN119212549A

公开(公告)日：2024-12-27

申请号：CN202411340099.X

申请日：2024-09-25

Applicant: 复旦大学

Inventor： 陈琳 , 宋逸凡 , 于佳杰 , 王晨 , 孙清清 , 张卫

IPC: H10N97/00 , H10B53/30

Abstract: 本发明公开一种具有快速响应速度的铪基铁电叠层结构及其制备方法。该铪基铁电叠层结构，包括：衬底；底电极，形成在所述衬底上，沿第一方向间隔排列；铁电功能叠层，形成在所述底电极上，由不同掺杂比例的多层铪基铁电薄膜构成；顶电极，形成在所述铁电功能叠层上，沿第二方向间隔排列，与第一方向垂直。

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