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公开(公告)号:CN112146601B
公开(公告)日:2021-07-16
申请号:CN201910568018.4
申请日:2019-06-27
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司 , 同威信达技术(北京)股份有限公司 , 上海束能辐照技术有限公司
Abstract: 本公开公开了一种基于剂量场检测的辐射成像方法及装置。其中,基于剂量场检测的辐射成像方法包括:获取采用X射线扫描待检测物体时待检测物体在X射线对应的辐照能量下的质量厚度数据;根据待检测物体对应的质量厚度分类条件,对质量厚度数据中的各个质量厚度值进行分类;其中,质量厚度分类条件根据待检测物体对应的质量厚度值和电子束辐照剂量分布数据的映射关系数据确定;根据各个质量厚度值及其所属分类、电子束辐照剂量分布数据,生成用于显示待检测物体的质量厚度和电子束辐照剂量分布数据的辐射图像。根据本公开实施例,使得测试人员能够直观地根据辐射图像确定剂量不均匀度是否符合要求,提高测试效率、降低测试成本。
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公开(公告)号:CN112146601A
公开(公告)日:2020-12-29
申请号:CN201910568018.4
申请日:2019-06-27
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司 , 同威信达技术(北京)股份有限公司 , 上海束能辐照技术有限公司
Abstract: 本公开公开了一种基于剂量场检测的辐射成像方法及装置。其中,基于剂量场检测的辐射成像方法包括:获取采用X射线扫描待检测物体时待检测物体在X射线对应的辐照能量下的质量厚度数据;根据待检测物体对应的质量厚度分类条件,对质量厚度数据中的各个质量厚度值进行分类;其中,质量厚度分类条件根据待检测物体对应的质量厚度值和电子束辐照剂量分布数据的映射关系数据确定;根据各个质量厚度值及其所属分类、电子束辐照剂量分布数据,生成用于显示待检测物体的质量厚度和电子束辐照剂量分布数据的辐射图像。根据本公开实施例,使得测试人员能够直观地根据辐射图像确定剂量不均匀度是否符合要求,提高测试效率、降低测试成本。
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公开(公告)号:CN112147664A
公开(公告)日:2020-12-29
申请号:CN201910566051.3
申请日:2019-06-27
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司 , 同威信达技术(北京)股份有限公司
Abstract: 公开了一种物品空间剂量分布检测方法及装置,物品空间剂量分布检测方法包括:构建剂量分布标准模型,剂量分布标准模型包括物品在预设大小的能量辐照下剂量分布数据与密度值的标准映射关系;对待测物进行透视扫描,获得待测物的立体透视图像和待测物各空间点的检测密度值;根据待测物各空间点的检测密度值及剂量分布标准模型的标准映射关系得到待测物各空间点的剂量分布数据;以及将待测物各空间点的剂量分布数据与立体透视图像匹配并显示。根据本公开实施例的物品空间剂量分布检测方法及装置,使得待测物各立体空间点的剂量分布数据更直观准确,方便辐照工艺中多种参数的合理配置。
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公开(公告)号:CN106976927A
公开(公告)日:2017-07-25
申请号:CN201710357882.0
申请日:2017-05-19
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: C02F1/30 , C02F101/30
CPC classification number: C02F1/30 , C02F2101/30
Abstract: 本公开提供了一种有机污染物电子束辐照降解装置,该装置包括:第一储液箱,用于放置待处理液体;注液泵,通过流道与所述第一储液箱连接;处理箱,通过流道与所述注液泵连接,其中,沿着所述待处理液体流动的方向在所述处理箱中依次设置有稳流板与一台阶;辐照加速器,设置在所述台阶的上方,用于对所述待处理液体进行辐照降解;第二储液箱,与所述处理箱连通,用于放置经过辐照降解后的所述液体。本公开结构简单,制造工艺简单,成本低且有机污染物的降解效率高。
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公开(公告)号:CN206901817U
公开(公告)日:2018-01-19
申请号:CN201720562477.8
申请日:2017-05-19
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: C02F1/30 , C02F101/30
Abstract: 本公开提供了一种有机污染物电子束辐照降解装置,该装置包括:第一储液箱,用于放置待处理液体;注液泵,通过流道与所述第一储液箱连接;处理箱,通过流道与所述注液泵连接,其中,沿着所述待处理液体流动的方向在所述处理箱中依次设置有稳流板与一台阶;辐照加速器,设置在所述台阶的上方,用于对所述待处理液体进行辐照降解;第二储液箱,与所述处理箱连通,用于放置经过辐照降解后的所述液体。本公开结构简单,制造工艺简单,成本低且有机污染物的降解效率高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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