一种准直可调制的X射线发生器

    公开(公告)号:CN103997839B

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:CN201410250942.5

    申请日:2014-06-06

    CPC classification number: H01J35/12 G21K1/043 G21K1/046 H01J2235/1287 H05G1/12

    Abstract: 本发明公开了一种准直可调制的X射线发生器,包括:X射线源组件,包括具有阴极和阳极的X射线管以及前置准直器;高压发生器,用于为X射线管的阴极和阳极之间提供直流高压以激发X射线束,其中,高压发生器布置于X射线管壳体的延展腔中;准直调制装置,可旋转地设置在前置准直器的外侧,用于将扇形X射线束调制成连续的笔形X射线束;和冷却装置,可独立地装配至X射线管,用于冷却X射线管中的阳极;其中,X射线源组件、高压发生器、准直调制装置和热管冷却装置集成为一体结构。本发明所提供的一种准直可调制的X射线发生器,结构紧凑,有助于安检系统设备的小型化、模块化和高效化设计。

    升降式辐射成像装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101441400A

    公开(公告)日:2009-05-27

    申请号:CN200710177750.6

    申请日:2007-11-20

    Abstract: 本发明辐射成像装置涉及一种可升降式的辐射成像装置。包括具有辐射源的辐射装置和具有成像模块的成像装置,其中所述辐射装置和成像装置彼此相对独立布置,其中所述辐射装置包括辐射底盘、安装在辐射底盘上的辐射一级升降机构,辐射源活动设置在辐射一级升降机构上;所述成像装置包括成像底盘、安装在成像底盘上的成像一级升降机构和安装在成像一级升降机构上的成像二级升降机构,所述成像模块安装在成像二级升降机构上。本发明结构简单,体积小,重量轻,且辐射装置与成像装置分为两部分结构,便于拆装和运输,并可以检测高度大于辐射成像装置本身的物体。

    升降式辐射成像装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101441400B

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN200710177750.6

    申请日:2007-11-20

    Abstract: 本发明辐射成像装置涉及一种可升降式的辐射成像装置。包括具有辐射源的辐射装置和具有成像模块的成像装置,其中所述辐射装置和成像装置彼此相对独立布置,其中所述辐射装置包括辐射底盘、安装在辐射底盘上的辐射一级升降机构,辐射源活动设置在辐射一级升降机构上;所述成像装置包括成像底盘、安装在成像底盘上的成像一级升降机构和安装在成像一级升降机构上的成像二级升降机构,所述成像模块安装在成像二级升降机构上。本发明结构简单,体积小,重量轻,且辐射装置与成像装置分为两部分结构,便于拆装和运输,并可以检测高度大于辐射成像装置本身的物体。

    有机污染物电子束辐照降解装置

    公开(公告)号:CN106976927A

    公开(公告)日:2017-07-25

    申请号:CN201710357882.0

    申请日:2017-05-19

    CPC classification number: C02F1/30 C02F2101/30

    Abstract: 本公开提供了一种有机污染物电子束辐照降解装置,该装置包括:第一储液箱,用于放置待处理液体;注液泵,通过流道与所述第一储液箱连接;处理箱,通过流道与所述注液泵连接,其中,沿着所述待处理液体流动的方向在所述处理箱中依次设置有稳流板与一台阶;辐照加速器,设置在所述台阶的上方,用于对所述待处理液体进行辐照降解;第二储液箱,与所述处理箱连通,用于放置经过辐照降解后的所述液体。本公开结构简单,制造工艺简单,成本低且有机污染物的降解效率高。

    有机污染物电子束辐照降解装置

    公开(公告)号:CN206901817U

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:CN201720562477.8

    申请日:2017-05-19

    Abstract: 本公开提供了一种有机污染物电子束辐照降解装置,该装置包括:第一储液箱,用于放置待处理液体;注液泵,通过流道与所述第一储液箱连接;处理箱,通过流道与所述注液泵连接,其中,沿着所述待处理液体流动的方向在所述处理箱中依次设置有稳流板与一台阶;辐照加速器,设置在所述台阶的上方,用于对所述待处理液体进行辐照降解;第二储液箱,与所述处理箱连通,用于放置经过辐照降解后的所述液体。本公开结构简单,制造工艺简单,成本低且有机污染物的降解效率高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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