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公开(公告)号：CN112361972B
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202011296374.4
申请日：2020-11-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种多层膜厚度及光学特性检测方法,包括：S1，依序在衬底上沉积薄膜以形成多层膜，该多层膜的薄膜分类金刚石薄膜和金刚石薄膜；S2，测量多层膜的椭偏光谱；S3，判断薄膜是金刚石薄膜或类金刚石薄膜，如为金刚石薄膜则执行S41，如为类金刚石薄膜则执行S42；S41，采用Cauchy模型计算以获全波段的薄膜光学常数和薄膜厚度；S42，选择一段薄膜的透明区，采用Cauchy模型计算以获该波段范围的薄膜光学常数和厚度；S5，在类金刚石薄膜的吸收光谱区添加介电常数振子模型，根据椭偏光谱调整振子的幅度和宽度；S6，利用评价函数MSE评判实验值和拟合值之间的差距，以此确定多层膜的结构以及每一层薄膜的光学常数和薄膜厚度，光学常数包括折射率和消光系数。
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公开(公告)号：CN112595673A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN202011296318.0
申请日：2020-11-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法，包括：采用透射式椭偏测量方式和反射式椭偏测量方式分别测量单晶金刚石衬底；通过上述测量分别获得透射光谱(ψt、Δt)和反射光谱(ψr、Δr)；依据上述测量获得光谱数据，采用Cauchy模型分别计算以获衬底光学常数，该光学常数至少包括衬底折射率n和消光系数k；评估拟合误差σ，当拟合误差超过预定条件，则优化光学模型或介电函数；比对优化后模型的拟合误差，选择一模型及测量方式以确定金刚石衬底的光学常数。它具有如下优点：光学常数测量更精准。
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公开(公告)号：CN112361972A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011296374.4
申请日：2020-11-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种多层膜厚度及光学特性检测方法,包括：S1，依序在衬底上沉积薄膜以形成多层膜，该多层膜的薄膜分类金刚石薄膜和金刚石薄膜；S2，测量多层膜的椭偏光谱；S3，判断薄膜是金刚石薄膜或类金刚石薄膜，如为金刚石薄膜则执行S41，如为类金刚石薄膜则执行S42；S41，采用Cauchy模型计算以获全波段的薄膜光学常数和薄膜厚度；S42，选择一段薄膜的透明区，采用Cauchy模型计算以获该波段范围的薄膜光学常数和厚度；S5，在类金刚石薄膜的吸收光谱区添加介电常数振子模型，根据椭偏光谱调整振子的幅度和宽度；S6，利用评价函数MSE评判实验值和拟合值之间的差距，以此确定多层膜的结构以及每一层薄膜的光学常数和薄膜厚度，光学常数包括折射率和消光系数。
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公开(公告)号：CN109540904A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811517416.5
申请日：2018-12-12
Applicant: 华侨大学
IPC: G01N21/88
Abstract: 本发明提供了一种衬底表面宏观缺陷检测及分类系统，系统包括缺陷检测模块，图像处理模块和缺陷分类模块，其中，缺陷检测模块主要是线阵视觉检测系统，实现衬底表面缺陷的全场检测；图像处理模块包括图像采集卡，计算机以及图像处理和特征提取等程序，实现采集衬底表面缺陷的全场图像，并提取缺陷的特征参数；缺陷分类模块是基于提取的缺陷特征参数进行分析，实现对衬底表面缺陷的分类。本发明作为一种衬底表面宏观缺陷检测及分类系统，不仅可实现对衬底衬底表面宏观缺陷的全场快速扫描测试，还可以对衬底表面宏观缺陷进行分类，该系统不局限于某一种衬底表面宏观缺陷的检测和分类，还可用于其他衬底表面宏观缺陷的检测和分类。
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公开(公告)号：CN112595673B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202011296318.0
申请日：2020-11-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法，包括：采用透射式椭偏测量方式和反射式椭偏测量方式分别测量单晶金刚石衬底；通过上述测量分别获得透射光谱(ψt、Δt)和反射光谱(ψr、Δr)；依据上述测量获得光谱数据，采用Cauchy模型分别计算以获衬底光学常数，该光学常数至少包括衬底折射率n和消光系数k；评估拟合误差σ，当拟合误差超过预定条件，则优化光学模型或介电函数；比对优化后模型的拟合误差，选择一模型及测量方式以确定金刚石衬底的光学常数。它具有如下优点：光学常数测量更精准。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110108716A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201910371255.1
申请日：2019-05-06
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种自动化衬底晶片缺陷及厚度检测系统，该检测系统可对衬底晶片进行缺陷检测，且能对有缺陷的衬底晶片进行分类判断，形成裂纹缺陷晶片和崩边缺陷晶片，并将裂纹缺陷和崩边缺陷进行分析以确定为无缺陷晶片、直接报废的晶片或可修复的晶片三种缺陷程度不同的晶片；同时，该检测系统还能进行厚度检测，厚度检测采用彩色共焦传感技术，以确定无缺陷晶片的厚度，以使下料模块能对无缺陷晶片进行分档下料。且整个检测系统完全自动化，完成一次检测速度快，适用于流水线批量作业，自动化程度高，无需人工识别缺陷及厚度分类，能满足批量的高效检测以及高精度检测需求。
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公开(公告)号：CN109001228B
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN201811087515.4
申请日：2018-09-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明提供了一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台，定位装置包括针对不同大小衬底的圆环托盘，圆环托盘上带有刻度，实现对不同规格的圆形衬底的定位；圆柱形连接支架用于连接衬底定位装置和背光照明装置，实现对光源的密封；背光照明装置，提供多种形式的光源，同时保证均匀照明；圆环形转接板，实现照明装置和旋转台的固定；旋转台可带动背光照明装置以及衬底定位装置实现回转运动；具有可拆卸功能的底座，用于固定衬底定位装置以及与检测平台的连接。本发明与现有的装置相比，不仅可实现对多种规格的衬底晶片精确定位和回转运动用于全场扫描测试，又可以提供多种均匀照明的背光光源，满足不同缺陷检测时的照明需求。
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公开(公告)号：CN112361973B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202011296380.X
申请日：2020-11-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种金刚石薄膜厚度及光学常数检测方法，先依据椭偏光谱数据及吸收光谱数据判断金刚石薄膜是单晶金刚石薄膜或多晶金刚石薄膜，再依据光谱数据分别选择不同计算方式以获光学常数和薄膜厚度，一方面不仅能获折射率和薄膜厚度，而且还能获消光系数，另一方面，单晶金刚石薄膜采用Cauchy模型计算以获光学常数和薄膜厚度，多晶金刚石薄膜则选择波段并依据振子模型和评价函数MSE计算以获光学常数和薄膜厚度，因此可检测单晶及多晶金刚石薄膜，能获光学常数折射率、消光系数和厚度，检测精度高、测量时间短。
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公开(公告)号：CN112361973A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011296380.X
申请日：2020-11-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种金刚石薄膜厚度及光学常数检测方法，先依据椭偏光谱数据及吸收光谱数据判断金刚石薄膜是单晶金刚石薄膜或多晶金刚石薄膜，再依据光谱数据分别选择不同计算方式以获光学常数和薄膜厚度，一方面不仅能获折射率和薄膜厚度，而且还能获消光系数，另一方面，单晶金刚石薄膜采用Cauchy模型计算以获光学常数和薄膜厚度，多晶金刚石薄膜则选择波段并依据振子模型和评价函数MSE计算以获光学常数和薄膜厚度，因此可检测单晶及多晶金刚石薄膜，能获光学常数折射率、消光系数和厚度，检测精度高、测量时间短。
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公开(公告)号：CN114754705A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210374730.2
申请日：2022-04-11
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了垂直扫描白光干涉谱辅助穆勒矩阵椭偏测量系统和方法，垂直扫描白光干涉模块既可以辅助穆勒矩阵椭偏仪高精度调平，又可以实现衬底表面粗糙度的纳米级测量。穆勒矩阵椭偏测量模块实现衬底光学特性高精度、快速测量；数据处理模块包括表面形貌参数提取单元和光学特性参数提取单元；表面形貌参数提取单元包括所属垂直扫描白光干涉模块所采集的单帧图像和层析图像；基于单帧图像对样品台进行高精度调平，以保证椭偏测量数据精度，基于层析图像对表面形貌进行恢复和参数提取，提供对应测量点椭偏光学模型中粗糙层的初值，为椭偏参数解耦提供基础。
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