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公开(公告)号：CN111044180A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201911274299.9
申请日：2019-12-12
Applicant: 华侨大学
IPC: G01L1/04
Abstract: 本发明提供了一种半导体衬底片连续径向加压装置，其特征在于包括：底座、导轨、刚性支撑件、样件夹持机构、加压刚性件、弹簧和一维位移台；所述导轨设置在底座的上表面，并沿着与底座上表面平行的方向延伸；所述一维位移平台通过弹簧和加压刚性件连接，并带动加压刚性件沿着与底座上表面平行的方向平移；所述刚性支撑件固定在样件夹持机构远离加压刚性件的一侧；衬底片的定位边与底座平行，竖直放置于样件夹持机构，并固定在与底座上表面垂直的平面内。上述装置，通过一维位移平台压缩弹簧，将位移转量换为压力，加压过程柔和且可控性、连续性良好；样品夹持装置可保证加压方向，避免弯曲扭力的产生所导致的衬底片破片。
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公开(公告)号：CN111044180B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN201911274299.9
申请日：2019-12-12
Applicant: 华侨大学
IPC: G01L1/04
Abstract: 本发明提供了一种半导体衬底片连续径向加压装置，其特征在于包括：底座、导轨、刚性支撑件、样件夹持机构、加压刚性件、弹簧和一维位移台；所述导轨设置在底座的上表面，并沿着与底座上表面平行的方向延伸；所述一维位移平台通过弹簧和加压刚性件连接，并带动加压刚性件沿着与底座上表面平行的方向平移；所述刚性支撑件固定在样件夹持机构远离加压刚性件的一侧；衬底片的定位边与底座平行，竖直放置于样件夹持机构，并固定在与底座上表面垂直的平面内。上述装置，通过一维位移平台压缩弹簧，将位移转量换为压力，加压过程柔和且可控性、连续性良好；样品夹持装置可保证加压方向，避免弯曲扭力的产生所导致的衬底片破片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109001228B
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN201811087515.4
申请日：2018-09-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明提供了一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台，定位装置包括针对不同大小衬底的圆环托盘，圆环托盘上带有刻度，实现对不同规格的圆形衬底的定位；圆柱形连接支架用于连接衬底定位装置和背光照明装置，实现对光源的密封；背光照明装置，提供多种形式的光源，同时保证均匀照明；圆环形转接板，实现照明装置和旋转台的固定；旋转台可带动背光照明装置以及衬底定位装置实现回转运动；具有可拆卸功能的底座，用于固定衬底定位装置以及与检测平台的连接。本发明与现有的装置相比，不仅可实现对多种规格的衬底晶片精确定位和回转运动用于全场扫描测试，又可以提供多种均匀照明的背光光源，满足不同缺陷检测时的照明需求。
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公开(公告)号：CN109001228A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201811087515.4
申请日：2018-09-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明提供了一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台，定位装置包括针对不同大小衬底的圆环托盘，圆环托盘上带有刻度，实现对不同规格的圆形衬底的定位；圆柱形连接支架用于连接衬底定位装置和背光照明装置，实现对光源的密封；背光照明装置，提供多种形式的光源，同时保证均匀照明；圆环形转接板，实现照明装置和旋转台的固定；旋转台可带动背光照明装置以及衬底定位装置实现回转运动；具有可拆卸功能的底座，用于固定衬底定位装置以及与检测平台的连接。本发明与现有的装置相比，不仅可实现对多种规格的衬底晶片精确定位和回转运动用于全场扫描测试，又可以提供多种均匀照明的背光光源，满足不同缺陷检测时的照明需求。
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公开(公告)号：CN210136184U
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201821524246.9
申请日：2018-09-18
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本实用新型提供了一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台，定位装置包括针对不同大小衬底的圆环托盘，圆环托盘上带有刻度，实现对不同规格的圆形衬底的定位；圆柱形连接支架用于连接衬底定位装置和背光照明装置，实现对光源的密封；背光照明装置，提供多种形式的光源，同时保证均匀照明；圆环形转接板，实现照明装置和旋转台的固定；旋转台可带动背光照明装置以及衬底定位装置实现回转运动；具有可拆卸功能的底座，用于固定衬底定位装置以及与检测平台的连接。本实用新型与现有的装置相比，不仅可实现对多种规格的衬底晶片精确定位和回转运动用于全场扫描测试，又可以提供多种均匀照明的背光光源，满足不同缺陷检测时的照明需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN208720988U
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201820958424.2
申请日：2018-06-21
Applicant: 华侨大学
IPC: G01B11/00
Abstract: 本实用新型提供了一种适用于大尺寸砂轮在位测试的镜头定位驱动平台，线阵相机固定在一维电控平移台的上表面，通过一维电控平移台带动线阵相机沿着镜头光轴方向移动；一维电控平移台固定在支撑台上，支撑台通过整体二维电控平移台带动完成相对砂轮的前后左右移动；长直角边板和短直角边板上分别固定有两块光源转接板，用于固定光源；电动旋转台位于光源和光源转接板之间，带动光源旋转；光源转接板用来调整光源与砂轮之间的距离，电控旋转台用来调整光源的入射角度，光源朝向砂轮的待检测位置进行照射，线阵相机对砂轮表面进行二维形貌检测。本实用新型提供了一种可以倾斜测量的，同时适用于大尺寸砂轮的在位测试的镜头定位驱动平台。
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公开(公告)号：CN211651904U
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201922226190.X
申请日：2019-12-12
Applicant: 华侨大学
IPC: G01L1/04
Abstract: 本实用新型提供了半导体衬底片连续径向加压装置，其特征在于包括：底座、导轨、刚性支撑件、样件夹持机构、加压刚性件、弹簧和一维位移台；所述导轨设置在底座的上表面，并沿着与底座上表面平行的方向延伸；所述一维位移平台通过弹簧和加压刚性件连接，并带动加压刚性件沿着与底座上表面平行的方向平移；所述刚性支撑件固定在样件夹持机构远离加压刚性件的一侧；衬底片的定位边与底座平行，竖直放置于样件夹持机构，并固定在与底座上表面垂直的平面内。上述装置，通过一维位移平台压缩弹簧，将位移转量换为压力，加压过程柔和且可控性、连续性良好；样品夹持装置可保证加压方向，避免弯曲扭力的产生所导致的衬底片破片。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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