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公开(公告)号:CN113829176B
公开(公告)日:2023-04-14
申请号:CN202111015122.4
申请日:2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法,研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板,其中,所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W3~W5;所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W1~W2;所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W0.5~W1。在铍材镜体研磨抛光时,分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面,铍材镜体平面度优于0.1μm,表面无划痕,表面粗糙度达到Ra 0.02μm,具备良好的反光性能,攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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公开(公告)号:CN113755940B
公开(公告)日:2023-04-14
申请号:CN202110988357.5
申请日:2021-08-26
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明公开了一种电工纯铁零件表面电镀镍层退除工艺方法,首先对电工纯铁零件进行前处理和电化学除油,再在电镀镍层电化学退除处理溶液中进行镍层退除,并设计了电镀镍层电化学退除处理溶液中的组分及其配比,该方法可将电工纯铁零件电镀镍层完全退除,电工纯铁零件基体尺寸精度和表面粗糙度不发生变化,可直接进行再次电镀镍层,节约了资源和生产成本,该工艺方法与外转子轭和内转子等纯铁零件的复杂形状无关,退镍速度快,可批量退镍,而且该方法采用环保型电解退镍溶液,溶液pH显示为中性偏酸溶液,不使用行业传统的氰化物和高浓度酸溶液,不污染环境,对操作者身体健康影响较小,属于环保型电镀镍层退除方法,适用于大规模生产。
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公开(公告)号:CN115127425A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202210762558.8
申请日:2022-06-29
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: G01B5/20
Abstract: 一种轴孔类零件三点找正修圆方法,利用装夹工装装夹待修工件并压紧找正;安装百分表进行检测确定内孔轮廓上跳动最大的三个拐点并通过记号笔标注;根据内孔轮廓上跳动最大的三个拐点确定唯一修孔圆、修孔圆圆心O'、最小修正孔轮廓;将待修工件的内孔、最小修正孔的形位精度进行比较,判断待修工件的内孔是否超差,若超差则报废待修工件,否则对待修工件的内孔进行修正;以修孔圆圆心为敲击方位,将修孔圆圆心敲击至待修工件的内孔的原圆心位置,完成待修工件的修正。
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公开(公告)号:CN114888720A
公开(公告)日:2022-08-12
申请号:CN202210453531.0
申请日:2022-04-27
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提出一种高精度铍材半球通孔可调式研磨装置,包括:包括锥形芯轴、微调螺母、垫块、可替换式研磨套、顶盖和微调螺钉。在利用该装置研磨铍材半球内孔时,可以根据需要研磨棒具体的磨损情况进行微调,从而得到高的形位精度和表面粗糙度。并且,使用较长时间以后,只需更换研磨套,不需要更换整根研磨棒。本发明研磨装置满足了设计精度要求,并且效率高,操作方便,解决了整体式研磨棒的频繁更换、研磨效率低的问题。
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公开(公告)号:CN113681465A
公开(公告)日:2021-11-23
申请号:CN202110857783.5
申请日:2021-07-28
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明公开了一种半球型轴承零件内孔高精度磨削装卡装置,设计了球形法兰的半球形凹槽,利用平面法兰压紧待加工半球型轴承零件,使其与球形法兰进行球面配合,利用球心重合自动找正的原理实现了待加工半球型轴承零件的自动找正,可实现高精度、快速装夹和自动找正,提高了球形轴承的磨削效率和产品一次加工合格率,同时具有装配简单,便于操作的优势;本发明还提供一种半球型轴承零件内孔高精度磨削装卡方法,操作简单,对操作人员的技术水平要求低,适用范围广泛。
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公开(公告)号:CN103866316B
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201410067851.8
申请日:2014-02-27
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明涉及一种铍材化学钝化处理方法,属于铍材表面处理技术领域。1)将机械加工后的铍材表面用机溶剂擦拭;2)将步骤1)用有机溶剂擦拭后的铍材用吹风机吹干其表面的有机溶剂;3)将步骤2)得到的铍材用酒精溶液进行超声清洗;4)铍材表面化学除油;5)铍材表面弱浸蚀;6)铍材表面钝化处理:将弱浸蚀完成的铍材零件浸入到钝化溶液中,进行钝化处理;钝化时间为10~20min,钝化操作的温度为35~45℃。本发明工艺组成简单,可操作性强,可用于大规模的工业化生产。
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公开(公告)号:CN103866316A
公开(公告)日:2014-06-18
申请号:CN201410067851.8
申请日:2014-02-27
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明涉及一种铍材化学钝化处理方法,属于铍材表面处理技术领域。1)将机械加工后的铍材表面用机溶剂擦拭;2)将步骤1)用有机溶剂擦拭后的铍材用吹风机吹干其表面的有机溶剂;3)将步骤2)得到的铍材用酒精溶液进行超声清洗;4)铍材表面化学除油;5)铍材表面弱浸蚀;6)铍材表面钝化处理:将弱浸蚀完成的铍材零件浸入到钝化溶液中,进行钝化处理;钝化时间为10~20min,钝化操作的温度为35~45℃。本发明工艺组成简单,可操作性强,可用于大规模的工业化生产。
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公开(公告)号:CN113681094B
公开(公告)日:2022-09-27
申请号:CN202110908848.4
申请日:2021-08-09
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种主轴位移式攻丝工装及攻丝方法,包括丝杠接头、上盖、下盖、传动齿轮、丝锥接头、磁扣和丝锥,丝杠接头通过本身的键凸结构穿过上盖,与齿轮连接,齿轮通过相互啮合进行齿轮传动,丝锥接头本身的键凸结构穿过下盖与齿轮进行连接,丝锥底部加工有凹槽,强力磁扣可以镶嵌在凹槽内,丝锥夹持端借助磁扣的磁力作用,可以实现快速装卸,且能够保证丝锥的同轴度及稳定性。本发明不但能够解决受限空间内进行攻丝,而且通过双丝杠接头的设计,可以实现手持丝杠不改变旋向的情况下加工出右旋或左旋螺纹。符合操作者加工习惯,拆装便捷,易操作。
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公开(公告)号:CN113829176A
公开(公告)日:2021-12-24
申请号:CN202111015122.4
申请日:2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法,研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板,其中,所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W3~W5;所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W1~W2;所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W0.5~W1。在铍材镜体研磨抛光时,分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面,铍材镜体平面度优于0.1μm,表面无划痕,表面粗糙度达到Ra 0.02μm,具备良好的反光性能,攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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公开(公告)号:CN109943875A
公开(公告)日:2019-06-28
申请号:CN201910362926.8
申请日:2019-04-30
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: C25D11/34
Abstract: 本发明公开了一种铍及其合金表面微弧氧化处理方法及装置,其中,该方法包括如下步骤:将等离子体电解氧化电源的阳极与纯铍或铍合金工件相连接,将等离子体电解氧化电源的阴极与石墨相连接,控制电解液温度,电解液采用硅酸盐电解液,控制等离子体电解氧化电源的电压,通电时间为10~30min,取出,用蒸馏水清洗去除无机盐,烘干,即使得纯铍或铍合金的表面获得微弧氧化陶瓷膜层。本发明获得具有相当厚度的、均匀致密的表面陶瓷氧化膜层。
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