公开(公告)号：CN108303857A

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201810073945.4

申请日：2018-01-25

Applicant: 北京控制工程研究所

Inventor： 左建斌 ,  武宏宇 ,  吕志强 ,  赵晓雨 ,  朱春英 ,  佟慧 ,  赵娜 ,  石建民 ,  范汉超 ,  杨思达

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝光时的接触力可调。本发明降低了双面曝光机使用时工艺重复性误差，改变了单面曝光机单面对准、单面曝光、中途翻转的方式，解决了小尺寸圆柱形光学零件双面光刻一致性较差的问题，使工件上下两面图形的同轴度≤0.03mm，峰峰值不对称度符合产品技术要求。使双面曝光的一致性误差由原来的不小于0.005mm降低到0.003mm以内。可有效提高双面光刻一致性。

公开(公告)号：CN108303857B

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201810073945.4

申请日：2018-01-25

Applicant: 北京控制工程研究所

Inventor： 左建斌 ,  武宏宇 ,  吕志强 ,  赵晓雨 ,  朱春英 ,  佟慧 ,  赵娜 ,  石建民 ,  范汉超 ,  杨思达

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝光时的接触力可调。本发明降低了双面曝光机使用时工艺重复性误差，改变了单面曝光机单面对准、单面曝光、中途翻转的方式，解决了小尺寸圆柱形光学零件双面光刻一致性较差的问题，使工件上下两面图形的同轴度≤0.03mm，峰峰值不对称度符合产品技术要求。使双面曝光的一致性误差由原来的不小于0.005mm降低到0.003mm以内。可有效提高双面光刻一致性。