用于制备复合晶圆的方法

    公开(公告)号:CN108885971B

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN201780021504.3

    申请日:2017-04-04

    Abstract: 本发明提供一种用于制备复合晶圆的方法,其在包括具有低的热膨胀系数的支撑衬底和在支撑衬底上堆叠的具有高的热膨胀系数的钽酸锂薄膜的复合晶圆中,能够减少由钽酸锂薄膜和支撑衬底之间的接合界面上的入射信号的反射引起的杂散。用于制备复合晶圆的方法是这样的用于制备复合晶圆的方法:其通过将具有高的热膨胀系数的钽酸锂晶圆粘合到具有低的热膨胀系数的支撑晶圆上来制备复合晶圆,其中在粘合到一起之前,从钽酸锂晶圆和/或支撑晶圆的粘合表面注入离子,以干扰各个粘合表面附近的结晶度。

    用于表面声波器件的复合基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN113676147A

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202110494829.1

    申请日:2021-05-07

    Abstract: 提供了一种具有小损耗的用于SAW器件的压电复合基板。根据本发明的一个实施方式的用于表面声波器件的复合基板具有:压电单晶薄膜,支撑基板,以及在压电单晶薄膜和支撑基板之间的第一中间层。在所述复合基板中,第一中间层与压电单晶薄膜接触,并且第一中间层中的横波的声速比压电单晶薄膜中的快横波的声速快。

    单晶锭的制造方法和单晶晶片的制造方法

    公开(公告)号:CN112746323A

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN202011188769.2

    申请日:2020-10-30

    Abstract: 本发明提供能够以良好的成品率制造结晶性优异的单晶锭的单晶锭的制造方法、和能够制造器件特性优异的晶片的单晶晶片的制造方法。本发明的单晶锭的制造方法包括:准备第一单晶锭的步骤;从第一单晶锭切出评价用基板102和晶种用锭103,在晶种用锭上形成投影面104的步骤;对评价用基板102测定局部音速,在评价用基板上的测定的音速的测定值为规定范围内的位置配置正常点105的步骤;在投影面上配置正常点105的映射107的步骤;从晶种用锭切出包含通过正常点105的映射107且与晶体生长轴平行的直线的晶体片109的步骤;和将晶体片109用作晶种制作第二单晶锭的步骤。本发明的单晶晶片的制造方法包括将通过本发明的单晶锭的制造方法制造的第二单晶锭切片制作单晶晶片的步骤。

    压电性氧化物单晶基板
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106464228A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201580024395.1

    申请日:2015-04-30

    CPC classification number: H01L41/1873 H01L41/18 H03H9/02559 H03H9/145 H03H9/25

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种翘曲小,无破裂、损伤,温度特性良好的用于表面声波元件等的压电性氧化物单晶基板。本发明是具有基板表面和基板内部的Li浓度不同的浓度分布曲线的压电性氧化物单晶基板,具体地说,具有在基板的厚度方向上越靠近基板表面则Li浓度越高,越靠近基板的厚度方向的中心部则Li浓度越减小的浓度分布曲线。另外,在本发明的压电性氧化物单晶基板中,从基板表面到Li浓度开始减小为止的范围或者到Li浓度结束增大为止的范围为伪化学计量组成,基板的厚度方向的中心部为大致同成分组成。

    复合基板及其制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115315780A

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202180022998.3

    申请日:2021-04-01

    Abstract: 本发明提供一种复合基板以及制造该复合基板的方法,所述复合基板即使暴露于高温或低温下也不会出现裂纹,从而不会出现性能劣化。本发明的复合基板(10)具有按列出顺序层叠的支承基板(2)、应力松弛间层(3)和氧化物单晶薄膜(1)。应力松弛间层(3)具有介于支承基板(2)的热膨胀系数与氧化物单晶薄膜(1)的热膨胀系数之间的热膨胀系数。

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