公开(公告)号：CN114967320A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210171656.4

申请日：2022-02-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 娄明吉 ,  吉田贵裕 ,  史蒂文·T·詹金斯 ,  小林谦一 ,  荒川达哉

IPC: G03F7/00

Abstract: 本发明涉及压印方法、压印光刻系统及物品制造方法。本公开提供对被支撑在可移动载台上的基板进行压印的方法和系统，所述方法和系统包括：将所述基板上的液体抗蚀剂与模板接触；以及利用第一组控制参数，使用反馈‑前馈控制处理将所述基板与所述模板对准。获得校准数据，并且增大所述抗蚀剂的至少一部分的粘度。在增大所述抗蚀剂的粘度之后，利用第二组控制参数，使用所述反馈‑前馈控制处理将所述基板与所述模板对准，基于所述校准数据确定所述第二组控制参数，并且固化所述模板下方的所述抗蚀剂。

公开(公告)号：CN111247623A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201880068085.3

申请日：2018-10-10

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小出博之 ,  舩吉智美 ,  小林谦一 ,  林达也

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

Abstract: 本发明提供了用于使用模具在基板上形成压印材料的图案的压印装置，该压印装置的特征在于包括：光学系统，该光学系统用于在模具的台面部与压印材料接触的状态下利用用于增大压印材料的粘度的照射光照射包括台面部的端部的周边区域，该周边区域围绕台面部；以及控制单元，该控制单元在模具的台面部与基板上的压印材料接触的状态下，控制光学系统以使得在相互不同的定时处利用照射光来照射周边区域中的具有距台面部的中心相互不同的距离的多个区(52a至52h、52n)。

公开(公告)号：CN111247623B

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN201880068085.3

申请日：2018-10-10

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小出博之 ,  舩吉智美 ,  小林谦一 ,  林达也

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

公开(公告)号：CN111158212A

公开(公告)日：2020-05-15

申请号：CN201911076450.8

申请日：2019-11-06

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小林谦一 ,  荒川达哉

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种压印装置和产品制造方法。一种压印装置在供应到基板上的压印材料和模具相互接触的状态下执行固化压印材料的压印处理。所述压印装置包括：调制器，其被构造为调制入射光；第一光学系统，其被构造为将来自第一光源的第一光引导至调制器，并将来自第二光源的第二光引导至调制器，第二光具有的波长不同于第一光的波长；以及第二光学系统，其被构造为将由调制器调制的调制光引导至基板。

公开(公告)号：CN111158212B

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN201911076450.8

申请日：2019-11-06

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小林谦一 ,  荒川达哉

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种压印装置和产品制造方法。一种压印装置在供应到基板上的压印材料和模具相互接触的状态下执行固化压印材料的压印处理。所述压印装置包括：调制器，其被构造为调制入射光；第一光学系统，其被构造为将来自第一光源的第一光引导至调制器，并将来自第二光源的第二光引导至调制器，第二光具有的波长不同于第一光的波长；以及第二光学系统，其被构造为将由调制器调制的调制光引导至基板。