公开(公告)号：CN107833846A

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201710832688.3

申请日：2017-09-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木勇治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67389 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67393 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67763

Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板运送方法。其中，基板搬送区域以基板露出的方式进行搬送；基板保管器搬送区域将基板保持在基板保管器内进行搬送；基板保管器保管架在基板保管器搬送区域内保管基板保管器；第一吹扫气体供给单元能够向被保管于基板保管器保管架的基板保管器供给吹扫气体；累计流量获取单元获取供给到基板保管器的吹扫气体的累计流量；运送载置部；第二吹扫气体供给单元向被载置于运送载置部的基板保管器供给吹扫气体；基板运送单元打开基板保管器，将基板运送到基板搬送区域内；以及控制单元基于吹扫气体的累计流量计算基板保管器内部的氧浓度，在氧浓度变为阈值以下时，使基板运送单元将基板运送到基板搬送区域。

公开(公告)号：CN110880465B

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN201910826373.7

申请日：2019-09-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 木下盛善 ,  佐佐木勇治 ,  佐藤淳一 ,  浅川贵志

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基片处理装置和吹扫方法。本发明的一个方式的基片处理装置包括：承载器保管架，其载置收纳基片的承载器；气体供给部，其对载置于上述承载器保管架的上述承载器内供给非活性气体；和控制部，其基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对上述承载器内供给上述非活性气体。本发明能够减少非活性气体的使用量。

公开(公告)号：CN117747486A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202311179226.8

申请日：2023-09-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥真实 ,  本间学 ,  大泉行雄 ,  佐藤泉 ,  佐佐木勇治 ,  镰田辉实

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/673 ,  B08B5/02 ,  B08B13/00

Abstract: 本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够高效地去除残留在基板上的不需要的分子。本公开的一个方式的基板处理装置具备：基板保持器具，其将多个基板沿铅垂方向具有间隔地分多层进行保持；以及处理容器，其收容所述基板保持器具，其中，所述基板保持器具具有将相邻的所述基板间分隔开的分隔板，所述分隔板的下表面具有用于喷出第一气体的多个喷出部，所述多个喷出部能够被独立地进行所述第一气体的供给切断的控制。

公开(公告)号：CN107833846B

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN201710832688.3

申请日：2017-09-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木勇治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板运送方法。其中，基板搬送区域以基板露出的方式进行搬送；基板保管器搬送区域将基板保持在基板保管器内进行搬送；基板保管器保管架在基板保管器搬送区域内保管基板保管器；第一吹扫气体供给单元能够向被保管于基板保管器保管架的基板保管器供给吹扫气体；累计流量获取单元获取供给到基板保管器的吹扫气体的累计流量；运送载置部；第二吹扫气体供给单元向被载置于运送载置部的基板保管器供给吹扫气体；基板运送单元打开基板保管器，将基板运送到基板搬送区域内；以及控制单元基于吹扫气体的累计流量计算基板保管器内部的氧浓度，在氧浓度变为阈值以下时，使基板运送单元将基板运送到基板搬送区域。

公开(公告)号：CN110880465A

公开(公告)日：2020-03-13

申请号：CN201910826373.7

申请日：2019-09-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 木下盛善 ,  佐佐木勇治 ,  佐藤淳一 ,  浅川贵志

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基片处理装置和吹扫方法。本发明的一个方式的基片处理装置包括：承载器保管架，其载置收纳基片的承载器；气体供给部，其对载置于上述承载器保管架的上述承载器内供给非活性气体；和控制部，其基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对上述承载器内供给上述非活性气体。本发明能够减少非活性气体的使用量。