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公开(公告)号：CN1125565C
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN95119996.X
申请日：1995-11-30
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H04N21/236 , H04N7/24 , H04N19/42 , H04N19/61 , H04N21/434
Abstract: 本发明的发送MPEG压缩数据的装置包括接收和存储MPEG压缩数据的接口部、将从接口部接收的压缩数据恢复为运动图像的恢复部、产生地址控制信号使压缩数据直接从接口部发送给恢复部的连接部和启动、清除连接部的CPU。由于这种装置在发送压缩数据时是直接传输而不占用ISA总线和系统主存储部，因此大大减轻了ISA总线的负担，也不需要在主存储部划出暂时存储区，从而改善了系统的总体性能。
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公开(公告)号：CN101750874B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN200910253239.9
申请日：2009-12-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/68 , G03F1/78 , G03F1/80 , H01J37/317
CPC classification number: G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/80 , H01J37/3174
Abstract: 本发明提供远紫外光掩模以及制造远紫外光掩模的方法和装置，其中制造光掩模的方法包括：在光掩模基板上形成上层，并且图案化该上层，以形成具有倾斜侧壁的上图案，其中图案化上层包括利用带电粒子各向异性蚀刻上层，该带电粒子平行于第一方向移动，该第一方向朝上层的顶表面倾斜。
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公开(公告)号：CN101750874A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910253239.9
申请日：2009-12-11
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/80 , H01J37/3174
Abstract: 本发明提供远紫外光掩模以及制造远紫外光掩模的方法和装置，其中制造光掩模的方法包括：在光掩模基板上形成上层，并且图案化该上层，以形成具有倾斜侧壁的上图案，其中图案化上层包括利用带电粒子各向异性蚀刻上层，该带电粒子平行于第一方向移动，该第一方向朝上层的顶表面倾斜。
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公开(公告)号：CN1094685C
公开(公告)日：2002-11-20
申请号：CN95119998.6
申请日：1995-11-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H04L29/00
CPC classification number: G06F3/14 , G09G2340/02
Abstract: 本发明所提出的具有重叠功能的数据通信装置包括：与通信网络连接的通信网络连接器，存储数据的存储器，以异步传送模式处理数据的数据处理器，对数据进行解码的解码器，与所属系统连接的系统连接器，对解码后数据进行重叠处理的重叠处理器，以及产生控制各部件之间数据传输的相应控制信号的传输控制器。这种数据通信装置减轻了CPU和主存储器的负担，改善了多媒体PC机的性能，并且可以插在一个ISA总线槽内。
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公开(公告)号：CN100501929C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200510003689.4
申请日：2005-01-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/30 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/70625 , G03F7/70433 , H01L22/34 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 公开了一种调整通过光刻工序形成的图形的临界尺寸偏差的方法。该方法包括测量通过光刻工序形成的图形的临界尺寸偏差，然后在光掩模中形成凹部、底切或各向同性沟槽。凹部、底切或各向同性沟槽形成为具有对应于图形的临界尺寸偏差量的尺寸。凹部、底切或各向同性沟槽的尺寸通常小于光刻工序中使用的曝光源的波长λ。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1129881A
公开(公告)日：1996-08-28
申请号：CN95119996.X
申请日：1995-11-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H04N7/24
CPC classification number: H04N21/236 , H04N7/24 , H04N19/42 , H04N19/61 , H04N21/434
Abstract: 本发明的发送MPEG压缩数据的装置包括接收和存储MPEG压缩数据的接口部、将从接口部接收的压缩数据恢复为运动图像的恢复部、产生地址控制信号使压缩数据直接从接口部发送给恢复部的连接部和启动、清除连接部的CPU。由于这种装置在发送压缩数据时是直接传输而不占用ISA总线和系统主存储部，因此大大减轻了ISA总线的负担，也不需要在主存储部划出暂时存储区，从而改善了系统的总体性能。
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公开(公告)号：CN1881086A
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN200610092512.0
申请日：2006-06-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/70425 , G03F1/50 , G03F7/70125 , G03F7/70566
Abstract: 根据本发明的光掩模根据使用光掩模所形成的图像类型的照射类型提供选择性区域优化。光掩模包括光偏振结构，其偏振入射到偏振结构的光。来自光刻曝光系统中的源的第一照射类型的光入射到光掩模。部分光入射到包括偏振结构的光掩模的区域，并且光的另一部分入射到不包括偏振结构的光掩模的另一区域。将入射到偏振结构的光的照射类型改变为第二照射类型，使得来自具有偏振结构的光掩模区域的入射到例如集成电路晶片衬底的光是第二照射类型。没有入射到偏振结构的部分光的照射类型没有改变，使得来自光掩模的该部分的入射到晶片的另一部分的光是第一类型。通过选择性地区域地控制光刻工序中的照射类型，在晶片的整个区域中优化曝光系统的分辨率。
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公开(公告)号：CN1638053A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200510003689.4
申请日：2005-01-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/30 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/70625 , G03F7/70433 , H01L22/34 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 公开了一种调整通过光刻工序形成的图形的临界尺寸偏差的方法。该方法包括测量通过光刻工序形成的图形的临界尺寸偏差，然后在光掩模中形成凹部、底切或各向同性沟槽。凹部、底切或各向同性沟槽形成为具有对应于图形的临界尺寸偏差量的尺寸。凹部、底切或各向同性沟槽的尺寸通常小于光刻工序中使用的曝光源的波长λ。
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