公开(公告)号：CN1924698B

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN200610129040.1

申请日：2006-09-04

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑珍植 ,  金熙范 ,  韩宇声 ,  许圣民

IPC: G03F1/29

CPC classification number: G03F1/29

Abstract: 提供了具有改进的分辨率的二元光掩模及其制造方法。该二元光掩模可包括衬底；防透光图形，排列在衬底上以限定电路图形；以及补偿层，配置为基于补偿层的布局改变透过二元光掩模的光，并排列在防透光层和/或衬底上。

公开(公告)号：CN1924698A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200610129040.1

申请日：2006-09-04

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑珍植 ,  金熙范 ,  韩宇声 ,  许圣民

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/29

Abstract: 提供了具有改进的分辨率的二元光掩模及其制造方法。该二元光掩模可包括衬底；防透光图形，排列在衬底上以限定电路图形；以及补偿层，配置为基于补偿层的布局改变透过二元光掩模的光，并排列在防透光层和/或衬底上。