公开(公告)号：CN1783285B

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN200510116928.7

申请日：2005-10-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 韩载爀 ,  吴东浩 ,  边龙圭 ,  金澈淳 ,  高汀锡 ,  李南勋 ,  具滋椿

IPC: G11B19/20 ,  F16C17/10

CPC classification number: G11B19/2018 ,  F16C17/045 ,  F16C33/107 ,  F16C2370/12

Abstract: 本发明提供了一种流体动压轴承，该流体动压轴承被构造为稳定支撑对其施加非均匀力的旋转体，还提供了一种使用该流体动压轴承的硬盘驱动器(HDD)。该流体动压轴承包括：轴颈轴承部分，在旋转轴的径向方向上支撑旋转轴；止推部分，形成在旋转轴的一端；止推轴承部分，面向止推部分并且在旋转轴的纵向方向上支撑旋转轴；多个沟槽，形成在止推轴承部分和/或止推部分的表面上。所述多个沟槽包括第一沟槽组和第二沟槽组，其中，所述第一沟槽组包括具有相同形状和排列的多个沟槽，所述第二沟槽组与所述第一沟槽组相邻并且包括具有相对于第一沟槽组的沟槽不对称的至少一个沟槽。

公开(公告)号：CN111230733A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201910795609.5

申请日：2019-08-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申镇 ,  孙佑睦 ,  李南勋 ,  金东亿 ,  吴承勋 ,  李恩石 ,  张永锡

IPC: B24B37/34 ,  B24B53/017 ,  B24B49/00

Abstract: 本申请提供一种制造方法和抛光设备。在制造方法中，在调节盘上方设置位移传感器。旋转调节盘以对抛光垫的抛光表面执行调节处理。在调节处理期间使用位移传感器检测旋转的调节盘的位移。根据检测到的位移计算调节盘的高度。基于计算的高度确定对所述抛光表面的所述调节处理的终点。

公开(公告)号：CN118016555A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202310897859.6

申请日：2023-07-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 卢炫佑 ,  金劲佑 ,  郑暎锡 ,  洪永珍 ,  吴守赞 ,  申盛宇 ,  李南勋 ,  李奉柱

IPC: H01L21/67 ,  B08B1/20 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  B08B1/00 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

Abstract: 提供了一种被配置为对具有缺口的衬底进行处理的衬底处理装置，该衬底处理装置包括：多个滚子，接触衬底的圆周，并被配置为旋转衬底；第一传感器，被配置为感测多个滚子和衬底之间的碰撞；以及信号处理单元，被配置为基于由第一传感器输出的第一感测信号，检测衬底的每单位时间的转数。

公开(公告)号：CN112635465A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN202010945220.7

申请日：2020-09-10

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹成美 ,  任桐贤 ,  金主烨 ,  魏胄滢 ,  李南勋 ,  郑天炯

IPC: H01L27/108

Abstract: 本发明提供了半导体器件及制造其的方法。该半导体器件可以包括有源图案、硅衬垫、绝缘层、隔离图案和晶体管。有源图案可以从基板突出。具有晶体结构的硅衬垫可以共形地形成在有源图案和基板的表面上。绝缘层可以形成在硅衬垫上。隔离图案可以形成在绝缘层上以填充与有源图案相邻的沟槽。晶体管可以包括栅极结构和杂质区域。栅极结构可以设置在硅衬垫上，并且杂质区域可以形成在硅衬垫和与栅极结构的两侧相邻的有源图案处。

公开(公告)号：CN111230733B

公开(公告)日：2024-02-06

申请号：CN201910795609.5

申请日：2019-08-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申镇 ,  孙佑睦 ,  李南勋 ,  金东亿 ,  吴承勋 ,  李恩石 ,  张永锡

IPC: B24B37/34 ,  B24B53/017 ,  B24B49/00

Abstract: 本申请提供一种制造方法和抛光设备。在制造方法中，在调节盘上方设置位移传感器。旋转调节盘以对抛光垫的抛光表面执行调节处理。在调节处理期间使用位移传感器检测旋转的调节盘的位移。根据检测到的位移计算调节盘的高度。基于计算的高度确定对所述抛光表面的所述调节处理的终点。

公开(公告)号：CN1783285A

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：CN200510116928.7

申请日：2005-10-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 韩载爀 ,  吴东浩 ,  边龙圭 ,  金澈淳 ,  高汀锡 ,  李南勋 ,  具滋椿

IPC: G11B19/20 ,  F16C17/10

CPC classification number: G11B19/2018 ,  F16C17/045 ,  F16C33/107 ,  F16C2370/12

Abstract: 本发明提供了一种流体动压轴承，该流体动压轴承被构造为稳定支撑对其施加非均匀力的旋转体，还提供了一种使用该流体动压轴承的硬盘驱动器(HDD)。该流体动压轴承包括：轴颈轴承部分，在旋转轴的径向方向上支撑旋转轴；止推部分，形成在旋转轴的一端；止推轴承部分，面向止推部分并且在旋转轴的纵向方向上支撑旋转轴；多个沟槽，形成在止推轴承部分和/或止推部分的表面上。所述多个沟槽包括第一沟槽组和第二沟槽组，其中，所述第一沟槽组包括具有相同形状和排列的多个沟槽，所述第二沟槽组与所述第一沟槽组相邻并且包括具有相对于第一沟槽组的沟槽不对称的至少一个沟槽。