公开(公告)号：CN111230733B

公开(公告)日：2024-02-06

申请号：CN201910795609.5

申请日：2019-08-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申镇 ,  孙佑睦 ,  李南勋 ,  金东亿 ,  吴承勋 ,  李恩石 ,  张永锡

IPC: B24B37/34 ,  B24B53/017 ,  B24B49/00

Abstract: 本申请提供一种制造方法和抛光设备。在制造方法中，在调节盘上方设置位移传感器。旋转调节盘以对抛光垫的抛光表面执行调节处理。在调节处理期间使用位移传感器检测旋转的调节盘的位移。根据检测到的位移计算调节盘的高度。基于计算的高度确定对所述抛光表面的所述调节处理的终点。

公开(公告)号：CN111230733A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201910795609.5

申请日：2019-08-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申镇 ,  孙佑睦 ,  李南勋 ,  金东亿 ,  吴承勋 ,  李恩石 ,  张永锡

IPC: B24B37/34 ,  B24B53/017 ,  B24B49/00

Abstract: 本申请提供一种制造方法和抛光设备。在制造方法中，在调节盘上方设置位移传感器。旋转调节盘以对抛光垫的抛光表面执行调节处理。在调节处理期间使用位移传感器检测旋转的调节盘的位移。根据检测到的位移计算调节盘的高度。基于计算的高度确定对所述抛光表面的所述调节处理的终点。