具有用于补偿掩模未对准的结构的薄膜晶体管基底

    公开(公告)号:CN101159274A

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN200710163017.9

    申请日:2007-09-28

    CPC classification number: H01L27/283 H01L27/285 H01L27/3262

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管(TFT)基底,该薄膜晶体管基底被这样构造:即使在漏电极和对应的栅极线之间存在制造引起的未对准的情况下,也因每个TFT的漏极和栅极之间的密勒电容使得在基底的整个区域上反冲电压保持恒定。每个薄膜晶体管包括:栅电极;有源层,形成在栅电极上,以与栅电极叠置;第一源电极和第二源电极,分别连接到第一数据线和第二数据线,第一数据线和第二数据线中的每条与栅极线交叉,并与栅极线绝缘;延长的漏电极,位于第一源电极和第二源电极之间,并设置在栅电极上方,以使交叉的漏电极的长度大于下面的栅电极的宽度,从而未对准引起的栅电极的位置相对于漏电极的移动基本没有改变栅电极和漏电极之间的叠置面积。

    显示装置、制造其的方法以及用于制造其的掩模

    公开(公告)号:CN1873530B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN200610088744.9

    申请日:2006-06-05

    Abstract: 本发明提供了一种掩模。该掩模包括:掩模体、第一曝光部分和第二曝光部分。第一曝光部分在掩模体上。该第一曝光部分包括:第一透光部分和第二透光部分。该第一透光部分将对应于输出端子的光刻胶部分曝光于第一光量的光。另外,第二透光部分将与输出端子相邻的光刻胶相邻部分曝光于第二光量的光,第二光量小于第一光量。第二曝光部分在掩模体上。该第二曝光部分包括多个第三透光部分,用于将对应于存储电极的光刻胶部分曝光于第三光量的光,第三光量在第一光量和第二光量之间。根据本发明,通过存储电极图案和像素电极形成的存储电容器的电特性得到了提高,使得显示装置的闪烁和/或余像减少,由此还导致显示装置的图像显示质量的改善。

    显示装置、制造其的方法以及用于制造其的掩模

    公开(公告)号:CN1873530A

    公开(公告)日:2006-12-06

    申请号:CN200610088744.9

    申请日:2006-06-05

    Abstract: 本发明提供了一种掩模。该掩模包括:掩模体、第一曝光部分和第二曝光部分。第一曝光部分在掩模体上。该第一曝光部分包括:第一透光部分和第二透光部分。该第一透光部分将对应于输出端子的光刻胶部分曝光于第一光量的光。另外,第二透光部分将与输出端子相邻的光刻胶相邻部分曝光于第二光量的光,第二光量小于第一光量。第二曝光部分在掩模体上。该第二曝光部分包括多个第三透光部分,用于将对应于存储电极的光刻胶部分曝光于第三光量的光,第三光量在第一光量和第二光量之间。根据本发明,通过存储电极图案和像素电极形成的存储电容器的电特性得到了提高,使得显示装置的闪烁和/或余像减少,由此还导致显示装置的图像显示质量的改善。

Patent Agency Ranking