具有偏转系统的粒子束装置

    公开(公告)号:CN102610479A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201110463206.4

    申请日:2011-12-05

    Abstract: 本发明涉及粒子束装置,其包括粒子束发生器、用于将由粒子束发生器产生的粒子束聚焦在目标平面上的物镜。物镜确定光轴。粒子束装置还包括用于偏转目标平面上的粒子束的第一和第二偏转系统,第一和第二偏转系统连续依次沿光轴设置。在第一运行模式中,第一偏转系统产生第一偏转场,第二偏转系统产生第二偏转场,第一和第二偏转场彼此具有第一角取向并被彼此定向,使得它们在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转。在第二运行模式中,第一偏转系统产生第三偏转场,第二偏转系统产生第四偏转场,第三和第四偏转场彼此具有第二角取向并被彼此定向,使得它们在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转。第二角取向不同于第一角取向。

    用于表面处理的电子束设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119301727A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202380044337.X

    申请日:2023-05-25

    Abstract: 本描述涉及一种电子束设备(100),该电子束设备包括:‑具有纵向方向(Z)的处理室(130);‑至少一个电子束源(110),每个源都适于在基本横向于纵向方向的束平面(PF)中发射电子束,以便在处理室中诱导等离子体或蒸发点,以用于处理部件(106)的表面,所述至少一个电子束源在处理室的外部;‑泵送室(120),其被连接至第一真空泵(126)、处理室和至少一个电子束源,该泵送室被定位在所述处理室与所述至少一个电子束源之间,并且适于执行所述处理室的差分真空泵送;‑至少一个第一孔口(122),以用于使电子束在处理室与泵送室之间穿过;以及‑至少一个第二孔口(124),以用于使电子束在泵送室与至少一个电子束源之间穿过。

    具有偏转系统的粒子束装置

    公开(公告)号:CN102610479B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201110463206.4

    申请日:2011-12-05

    Abstract: 本发明涉及粒子束装置,其包括粒子束发生器、用于将由粒子束发生器产生的粒子束聚焦在目标平面上的物镜。物镜确定光轴。粒子束装置还包括用于偏转目标平面上的粒子束的第一和第二偏转系统,第一和第二偏转系统连续依次沿光轴设置。在第一运行模式中,第一偏转系统产生第一偏转场,第二偏转系统产生第二偏转场,第一和第二偏转场彼此具有第一角取向并被彼此定向,使得它们在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转。在第二运行模式中,第一偏转系统产生第三偏转场,第二偏转系统产生第四偏转场,第三和第四偏转场彼此具有第二角取向并被彼此定向,使得它们在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转。第二角取向不同于第一角取向。

    一种粒子束能够通过的非金属真空隔离窗

    公开(公告)号:CN102103968B

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201110024487.3

    申请日:2011-01-19

    Abstract: 本发明公开一种设置于离子束流处理装置中束流的终端,能使束流处理装置的真空环境与大气环境相隔离,同时能使束流穿过的隔离窗。本发明的这种隔离窗是在粒子束的大气出口处用支承装置设置有真空隔离窗,其支承装置中固定设置有两个用高分子材料制成的薄膜,在两个薄膜间形成一个可抽真空的区域,在第一薄膜的内表面外和第二薄膜的外表面外还分别设置有用高分子材料制成的网状支承物,两个薄膜间的可抽真空区域与真空泵连接。

Patent Agency Ranking