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公开(公告)号：CN104995145A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480009659.1
申请日：2014-02-19
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
Inventor： B.屈恩
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B32/02 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/24 , C03C4/04 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2203/54 , C03C2204/00 , G02B1/00 , G02B1/02 , Y02P40/57
Abstract: 本发明基于一种由合成石英玻璃制成的光学部件，所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围内的氢含量并且具有少于2x1017个分子/cm3的SiH基含量和具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间范围内的羟基含量，其中玻璃结构具有小于1070℃的假定温度。为了基于在633nm的测量波长的情况下压实行为的测量在使用应用波长的UV激光辐射的情况下能够实现关于压实行为的可靠预测，提出光学部件的一种构型，其中，所述部件对利用波长为193nm、具有5x109个具有脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500μJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的辐射的照射以激光诱导的折射率变化做出反应，所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm，其中适用：M193nm/M633nm
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公开(公告)号：CN101503273B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN200910004087.9
申请日：2009-02-09
Applicant: 康宁股份有限公司
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/22 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/22 , C03C2201/23 , C03C2203/54 , G03F7/70966
Abstract: 本发明涉及具有低OH、OD浓度的无卤化物的玻璃。提供一种在至少约50平方厘米的孔面积上具有小于或等于约5ppm的折射率均匀性的熔凝石英玻璃。所述熔凝石英玻璃还基本不含卤素，并具有小于约160纳米的吸附边缘。该玻璃通过以下方式干燥，在固结前使硅石烟炱毛坯与一氧化碳接触，降低羟基(即，OH，其中H是氕(11H)和氘氧基(OD)，其中，D是氘(12H))的总浓度，在一个实施方式中降低至小于约20重量ppm，在另一个实施方式中降低至小于5重量ppm，在第三实施方式中降低至小于约1重量ppm。
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公开(公告)号：CN101730667B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200880023314.6
申请日：2008-04-28
Applicant: 康宁股份有限公司
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2201/22 , C03B2201/23 , C03B2201/31 , C03C2201/22 , C03C2201/23 , C03C2203/54
Abstract: OH和OD中至少一种的合并浓度最高达到约50ppm的熔凝氧化硅玻璃和熔凝氧化硅制品。所述熔凝氧化硅玻璃这样制备：在包含干燥剂的惰性气氛中干燥熔凝氧化硅烟炱坯体，然后在包含惰性气体和氧气的气氛中加热干烟炱坯体，从干烟炱坯体中除去残余干燥剂。
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公开(公告)号：CN101679109A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880020897.7
申请日：2008-06-20
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G02B1/18 , C03C3/06 , C03C15/00 , C03C21/007 , C03C2201/12 , C03C2203/54 , C03C2204/08 , G02B1/105 , G02B1/12
Abstract: 本发明的课题在于提供可以对氧化物玻璃的表面进行低成本且密合性良好的氟化处理的新的氟化处理方法。本发明通过如下的氧化物玻璃的表面处理方法解决上述课题：它是使氟化剂的气体或将氟化剂以惰性气体稀释而得的混合气体与氧化物玻璃的表面接触的氧化物玻璃的表面处理方法，其特征在于，所述氟化剂是氟单质或可切断氧化物玻璃的骨架中的氧原子与金属原子的键并形成氟原子与金属原子的键的氟化合物，将所述氟化剂接触的所述氧化物玻璃表面的氟化氢浓度控制在1mol％以下。
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公开(公告)号：CN100569680C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200480029247.0
申请日：2004-10-19
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/00 , C03B5/16 , C03B5/193 , C03B5/235 , C03B2201/20 , C03C1/00 , C03C13/00 , C03C2201/06 , C03C2203/10 , C03C2203/52 , C03C2203/54
Abstract: 本发明的玻璃组合物是无机玻璃的玻璃组合物，在玻璃中所含氦内，质量数为3的同位素与质量数为4的同位素的体积比(0℃，1大气压)，比大气中的3He/4He的值小。而且本发明的玻璃物品的制造方法，包括将玻璃原料加热熔融的工序、将熔融玻璃均质化的工序、将熔融玻璃成形为所需形状的工序和冷却到室温的工序，根据该方法制成本发明的成形品，使其含有给定重量比的氦。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101503273A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200910004087.9
申请日：2009-02-09
Applicant: 康宁股份有限公司
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/22 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/22 , C03C2201/23 , C03C2203/54 , G03F7/70966
Abstract: 本发明涉及具有低OH、OD浓度的无卤化物的玻璃。提供一种在至少约50平方厘米的孔面积上具有小于或等于约5ppm的折射率均匀性的熔凝石英玻璃。所述熔凝石英玻璃还基本不含卤素，并具有小于约160纳米的吸附边缘。该玻璃通过以下方式干燥，在固结前使硅石烟炱毛坯与一氧化碳接触，降低羟基(即，OH，其中H是氕和氘氧基(OD)，其中，D是氘)的总浓度，在一个实施方式中降低至小于约20重量ppm，在另一个实施方式中降低至小于5重量ppm，在第三实施方式中降低至小于约1重量ppm。
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公开(公告)号：CN104661972B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201380050400.7
申请日：2013-09-06
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
IPC: C03B23/047 , C03B37/014 , C03B19/14
CPC classification number: C03B37/018 , C03B19/1461 , C03B23/047 , C03B37/01446 , C03B37/027 , C03B2201/12 , C03C3/04 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2203/46 , C03C2203/54
Abstract: 本发明涉及氟化灰料体的方法，其包括以下步骤：a)提供灰料体，和b)将所述灰料体在(1280‑n*250)℃至(1220‑n*100)℃的温度下用包含CnF2n+2和氢的气体混合物处理，其中n=1或者2。
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公开(公告)号：CN103492338B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280018685.1
申请日：2012-04-13
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C21/001 , C03C3/087 , C03C15/00 , C03C21/007 , C03C2203/54
Abstract: 在短时间内有效地制得具有折射率低的性能优异的低折射率层的玻璃基体。在将玻璃基体的玻璃化转变温度设为Tg的情形下，在该玻璃基体的温度为400℃～Tg＋60℃的范围内，通过使含有结构中存在氟原子的分子的气体或液体与运送中的玻璃基体接触来进行所述表面处理而制造玻璃基体。
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公开(公告)号：CN101426744B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200780013293.5
申请日：2007-09-04
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 , 信越石英株式会社
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/34 , C03B2201/36 , C03C4/20 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/3411 , C03C2201/3435 , C03C2203/10 , C03C2203/54
Abstract: 本发明始于用于半导体制造的已知石英玻璃元件，该元件至少在近表面区具有第一掺杂剂和第二氧化掺杂剂的共掺杂，所述第二掺杂剂含一种或多种浓度各为0.1～3wt％的稀土金属(以SiO2和掺杂剂的总质量为基准计算)。由此开始，为了提供用于在腐蚀作用环境中半导体制造的以高纯度和高耐干腐蚀著称并避免了由用氧化铝共掺杂所造成的已知缺点的石英玻璃元件，按照本发明建议：第一掺杂剂应是氮以及石英玻璃内亚稳定羟基的平均含量应小于30wtppm。
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公开(公告)号：CN102674682A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210058782.5
申请日：2012-03-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 浦田佑平
IPC: C03B37/014 , C03C13/00
CPC classification number: C03B37/01453 , C03B37/01446 , C03B2201/12 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2203/54
Abstract: 经过由氯系气体环境中将多孔质玻璃堆积体加热处理并进行脱水的第一步骤、在含氟源的气体环境中进行加热处理并添加氟的第二步骤、在包含氟源的气体环境中用比上述第二步骤高的温度进行加热处理，透明玻璃化的第三步骤构成的烧结步骤制造含氟光纤基材的方法；其特征在于，所述第一步骤、第二步骤及第三步骤的处理温度分别依次为T1、T2、T3(k)，上述第二步骤及第三步骤的氟源气体浓度，依次为C2、C3(％)，当参数Q用下列数学式1表达的时候，参数Q的值为Q＞0.14的范围的处理温度、氟源气体浓度来制造。[数学式1]Q＝C2×exp(-T2/T1)+C3×exp(-T3/T2)。
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