公开(公告)号：CN101144987A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710154296.2

申请日：2007-09-17

Applicant: NEC液晶技术株式会社 ,  长濑化成株式会社

Inventor： 城户秀作 ,  铃木圣二 ,  安江秀国 ,  西嶋佳孝

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/26 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/3213

Abstract: 提供一种用于至少去除在衬底上形成的有机膜图案的表面上形成的阻止层的化学溶液，阻止层由所述有机膜图案表面变质而形成的变质层和在所述有机膜图案表面上沉积沉积物而形成的沉积层中的至少一种构成。化学溶液由含有第一组分和第二组分的水溶液组成，所述第一组分由羟胺衍生物和肼衍生物中的至少一种组成，所述第二组分具有显影功能。

公开(公告)号：CN101654617A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200910165973.X

申请日：2009-08-20

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 城户秀作 ,  安江秀国 ,  西嶋佳孝

IPC: C09K13/00 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明的目的在于提供溶解变形用药液及溶解变形处理方法。其中，所述溶解变形用药液可以对有机膜图案进行均匀的溶解变形处理。本发明为一种溶解变形用药液，用于有机膜图案的溶解变形处理，其中，含有酰胺类及腈类中的至少任一种。另外，本发明为一种溶解变形用药液，用于有机膜图案的溶解变形处理，其中，至少含有含氮的碱成分和溶解变形用溶剂。