制备偏振分离器的方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104011570A

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201280064182.8

    申请日:2012-12-21

    CPC classification number: G02B5/3075 G02B5/3058

    Abstract: 本申请涉及一种制备偏振光分离元件的方法、偏振光分离元件、光辐射装置、辐射光的方法以及制备定向排序的光控取向层的方法。本申请的制备偏振光分离元件的方法具有简单的制备过程和较低的生产成本,并且有助于制备大尺寸的紫外偏振光分离元件。此外,本申请的偏振光分离元件对于紫外线和热具有优异的耐久性,由于对偏振特性的间距依赖性较低而具有简便的制备过程,而且即使在短波长区域内也能够实现优良的偏振度。

    曝光装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104937697B

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201480005571.2

    申请日:2014-08-01

    Abstract: 本发明涉及一种光掩模,一种曝光装置及一种方法。根据本申请的掩模、曝光装置和方法,可以在圆柱形模具上容易地形成具有亚微米大小的精细图案,并且有图案形成于其中的圆柱形模具可容易地应用于自动化工艺,诸如辊对辊工艺。此外,使用由挠性材料形成的光掩模,因此可以大规模形成具有各种大小的精细图案,并且这些精细图案可以分开地或独立地形成在圆柱形模具的曲面上,本发明在工艺的自由度方面表现出优异的效果。

    反射式偏光器
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103998956A

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201280062257.9

    申请日:2012-12-17

    CPC classification number: G02F1/133536 G02B5/3058 G02F2001/133548

    Abstract: 本发明涉及一种反射式偏光器、制备该反射式偏光器的方法、光学元件和显示装置。本申请的反射式偏光器即使在暴露于光源或外部摩擦下时,也可以具有优良的热耐久性和物理耐久性。此外,根据本申请的制备反射式偏光器的方法可以在不使用昂贵设备的情况下,提供具有较大尺寸的反射式偏光器。

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