公开(公告)号：CN107210214A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680006490.3

申请日：2016-03-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 羽山孝弘 ,  三星兰 ,  亀井康孝 ,  西口直希 ,  三元清孝 ,  加茂理 ,  饭田雅史

IPC: H01L21/304

CPC classification number: C09G1/04 ,  B24B37/20 ,  B24B57/02 ,  C09G1/02 ,  C23F1/00 ,  C23F3/04 ,  C23G1/20 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/4846 ,  H01L21/4864 ,  H01L23/49866 ,  H05K3/26 ,  H05K2203/0793

Abstract: 本发明的化学机械研磨用处理组合物的特征为：含有(A)水溶性胺、(B)具有含芳香族烃基的重复单元的水溶性聚合物、及水系介质，优选含有(C)具有芳香族烃基的有机酸，且pH为9以上。