-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109564388A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780047416.0
申请日：2017-08-02
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/09
CPC classification number: G03F7/091 , C09D125/18 , C09D133/14 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供一种下层抗反射膜形成用组合物，其显现高的蚀刻耐受性，即使在比较低的温度也可交联。本发明进一步提供一种使用了该下层抗反射膜形成用组合物的抗蚀图案以及器件的制造方法。[方案]提供了一种下层抗反射膜形成用组合物、以及使用了其的抗蚀图案以及器件的制造方法，所述下层抗反射膜形成用组合物包含以下的成分：包含特定的重复单元的聚合物A、分子量100～3,000的低分子交联剂、以及溶剂。
-
公开(公告)号：CN109564388B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN201780047416.0
申请日：2017-08-02
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/09
Abstract: [要解决的问题]本发明提供一种下层抗反射膜形成用组合物，其显现高的蚀刻耐受性，即使在比较低的温度也可交联。本发明进一步提供一种使用了该下层抗反射膜形成用组合物的抗蚀图案以及器件的制造方法。[方案]提供了一种下层抗反射膜形成用组合物、以及使用了其的抗蚀图案以及器件的制造方法，所述下层抗反射膜形成用组合物包含以下的成分：包含特定的重复单元的聚合物A、分子量100～3,000的低分子交联剂、以及溶剂。
-
公开(公告)号：CN106414328A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201580029203.6
申请日：2015-05-28
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: C01B33/18 , C01B33/145 , C09C1/30 , C09C3/12
CPC classification number: C01B33/18 , C01B33/145 , C01B33/146 , C01P2004/64 , C09C1/30 , C09C1/3081 , C09C3/12
Abstract: 本发明提供一种高度地分散于有机分散介质、并且具有高的透明性以及保存稳定性的表面改性二氧化硅纳米颗粒分散液。一种方法，其为制造表面改性二氧化硅纳米颗粒的方法，包含如下的工序：准备包含二氧化硅纳米颗粒与水性分散介质的第1二氧化硅纳米颗粒分散液的工序，利用包含从环状酯以及环状酰胺中选出的至少1种的有机分散介质将前述第1二氧化硅纳米颗粒分散液中的前述水性分散介质进行置换而获得第2二氧化硅纳米颗粒分散液的工序，向前述第2二氧化硅纳米颗粒分散液中加入由式(1)(式中，R1各自独立地为C1～C20的烃基，R2是C1～C3的烃基)表示的硅烷偶联剂，从而将二氧化硅纳米颗粒的表面进行改性的工序。
-
公开(公告)号：CN106414328B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201580029203.6
申请日：2015-05-28
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: C01B33/18 , C01B33/145 , C09C1/30 , C09C3/12
CPC classification number: C01B33/18 , C01B33/145 , C01B33/146 , C01P2004/64 , C09C1/30 , C09C1/3081 , C09C3/12
Abstract: 本发明提供一种高度地分散于有机分散介质、并且具有高的透明性以及保存稳定性的表面改性二氧化硅纳米颗粒分散液。一种方法，其为制造表面改性二氧化硅纳米颗粒的方法，包含如下的工序：准备包含二氧化硅纳米颗粒与水性分散介质的第1二氧化硅纳米颗粒分散液的工序，利用包含从环状酯以及环状酰胺中选出的至少1种的有机分散介质将前述第1二氧化硅纳米颗粒分散液中的前述水性分散介质进行置换而获得第2二氧化硅纳米颗粒分散液的工序，向前述第2二氧化硅纳米颗粒分散液中加入由式(1)(式中，R1各自独立地为C1～C20的烃基，R2是C1～C3的烃基)表示的硅烷偶联剂，从而将二氧化硅纳米颗粒的表面进行改性的工序。
-
公开(公告)号：CN108351588A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680066965.8
申请日：2016-11-02
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/2022 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种高耐热性抗蚀剂组合物以及使用该组合物的图案形成方法。本发明提供了包含特定聚合物和特定交联剂的化学放大型负型抗蚀剂组合物，并且该组合物使得可以形成高灵敏度、优异分辨率和强耐热性的抗蚀图案。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.027 seconds)
