公开(公告)号：CN113791523A

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN202111078800.1

申请日：2016-12-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 白宗薰 ,  M·C·亚伯拉罕 ,  D·R·埃文斯 ,  J·M·加扎

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

Abstract: 一种在生成EUV光的同时去除靶材料碎片沉积物的系统和方法，包括：在EUV容器中靠近靶材料碎片沉积物原位生成氢自由基，并且使靶材料碎片沉积物挥发并且在EUV容器中不需要含氧物质的情况下，净化来自EUV容器的挥发的靶材料碎片沉积物。

公开(公告)号：CN108472497B

公开(公告)日：2021-09-21

申请号：CN201680079709.2

申请日：2016-12-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 白宗薰 ,  M·C·亚伯拉罕 ,  D·R·埃文斯 ,  J·M·加扎

IPC: A61N5/06 ,  G01J3/10 ,  H05G2/00 ,  B08B6/00

Abstract: 一种在生成EUV光的同时去除靶材料碎片沉积物的系统和方法，包括：在EUV容器中靠近靶材料碎片沉积物原位生成氢自由基，并且使靶材料碎片沉积物挥发并且在EUV容器中不需要含氧物质的情况下，净化来自EUV容器的挥发的靶材料碎片沉积物。

公开(公告)号：CN113791523B

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN202111078800.1

申请日：2016-12-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 白宗薰 ,  M·C·亚伯拉罕 ,  D·R·埃文斯 ,  J·M·加扎

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

Abstract: 一种在生成EUV光的同时去除靶材料碎片沉积物的系统和方法，包括：在EUV容器中靠近靶材料碎片沉积物原位生成氢自由基，并且使靶材料碎片沉积物挥发并且在EUV容器中不需要含氧物质的情况下，净化来自EUV容器的挥发的靶材料碎片沉积物。

公开(公告)号：CN108472497A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201680079709.2

申请日：2016-12-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 白钟勋 ,  M·C·亚伯拉罕 ,  D·R·埃文斯 ,  J·M·加扎

IPC: A61N5/06 ,  G01J3/10 ,  H05G2/00 ,  B08B6/00

CPC classification number: H05G2/005 ,  G02B19/0095 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70933 ,  H05G2/008

Abstract: 一种在生成EUV光的同时去除靶材料碎片沉积物的系统和方法，包括：在EUV容器中靠近靶材料碎片沉积物原位生成氢自由基，并且使靶材料碎片沉积物挥发并且在EUV容器中不需要含氧物质的情况下，净化来自EUV容器的挥发的靶材料碎片沉积物。