公开(公告)号：CN104380203B

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：CN201380030523.4

申请日：2013-05-23

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·柏莱曼斯 ,  G·范德祖克 ,  R·斯梅茨 ,  J·德维特 ,  P·安齐费罗夫 ,  V·克里夫特苏恩

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  G01N21/956 ,  H01J65/04 ,  H01J61/02 ,  H01J61/54 ,  H05B41/38

CPC classification number: H05H1/24 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/061 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70641 ,  H01J61/02 ,  H01J61/54 ,  H01J61/545 ,  H01J65/04 ,  H05B41/38 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

Abstract: 一种激光驱动的光源，包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束，其中所述容器包括气体(例如，氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子，以形成输出辐射束(46)。等离子体具有细长形状(L>d)，并且收集光学装置被配置用于收集沿纵向从等离子体出射的光子。相比于收集沿横向从等离子体出射的辐射的源，等离子体的亮度被增大。由于增大的亮度，使用所述光源的量测设备可以获得较大的精确度和/或生产率。可以提供回射反射器。微波辐射可以被使用，代替激光辐射，以形成等离子体。

公开(公告)号：CN104380203A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201380030523.4

申请日：2013-05-23

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·柏莱曼斯 ,  G·范德祖克 ,  R·斯梅茨 ,  J·德维特 ,  P·安齐费罗夫 ,  V·克里夫特苏恩

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  G01N21/956 ,  H01J65/04 ,  H01J61/02 ,  H01J61/54 ,  H05B41/38

CPC classification number: H05H1/24 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/061 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70641 ,  H01J61/02 ,  H01J61/54 ,  H01J61/545 ,  H01J65/04 ,  H05B41/38 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

Abstract: 一种激光驱动的光源，包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束，其中所述容器包括气体(例如，氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子，以形成输出辐射束(46)。等离子体具有细长形状(L>d)，并且收集光学装置被配置用于收集沿纵向从等离子体出射的光子。相比于收集沿横向从等离子体出射的辐射的源，等离子体的亮度被增大。由于增大的亮度，使用所述光源的量测设备可以获得较大的精确度和/或生产率。可以提供回射反射器。微波辐射可以被使用，代替激光辐射，以形成等离子体。