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公开(公告)号：CN102483582A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080037150.X
申请日：2010-08-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70633 , G03F7/70616
Abstract: 一种量测设备布置成以离轴照射模式照射多个目标。仅利用一个第一级衍射束获得目标的图像。在目标是复合光栅的情况下，可以根据不同光栅的图像的强度获得重叠测量。重叠测量可以被针对于由光栅在像场中的位置变化引起的误差进行校正。
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公开(公告)号：CN102483582B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201080037150.X
申请日：2010-08-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70633 , G03F7/70616
Abstract: 一种量测设备布置成以离轴照射模式照射多个目标。仅利用一个第一级衍射束获得目标的图像。在目标是复合光栅的情况下，可以根据不同光栅的图像的强度获得重叠测量。重叠测量可以被针对于由光栅在像场中的位置变化引起的误差进行校正。
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公开(公告)号：CN104380203B
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201380030523.4
申请日：2013-05-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: H05H1/24 , G01N21/956 , G01N2201/061 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/70641 , H01J61/02 , H01J61/54 , H01J61/545 , H01J65/04 , H05B41/38 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 一种激光驱动的光源，包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束，其中所述容器包括气体(例如，氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子，以形成输出辐射束(46)。等离子体具有细长形状(L>d)，并且收集光学装置被配置用于收集沿纵向从等离子体出射的光子。相比于收集沿横向从等离子体出射的辐射的源，等离子体的亮度被增大。由于增大的亮度，使用所述光源的量测设备可以获得较大的精确度和/或生产率。可以提供回射反射器。微波辐射可以被使用，代替激光辐射，以形成等离子体。
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公开(公告)号：CN104380203A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380030523.4
申请日：2013-05-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: H05H1/24 , G01N21/956 , G01N2201/061 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/70641 , H01J61/02 , H01J61/54 , H01J61/545 , H01J65/04 , H05B41/38 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 一种激光驱动的光源，包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束，其中所述容器包括气体(例如，氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子，以形成输出辐射束(46)。等离子体具有细长形状(L>d)，并且收集光学装置被配置用于收集沿纵向从等离子体出射的光子。相比于收集沿横向从等离子体出射的辐射的源，等离子体的亮度被增大。由于增大的亮度，使用所述光源的量测设备可以获得较大的精确度和/或生产率。可以提供回射反射器。微波辐射可以被使用，代替激光辐射，以形成等离子体。
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