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公开(公告)号:CN112313161A
公开(公告)日:2021-02-02
申请号:CN201980042647.1
申请日:2019-06-21
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 斯科特·L·斯利斯科 , 罗纳德·P·斯万松
Abstract: 本发明公开了一种惰辊,该惰辊具有固定轴,固定轴具有至少一个球形轴承和能够但不必为球形轴承的第二轴承。在一些实施方案中,第二轴承以可滑动方式安装在中心轴上。外壳安装在这些轴承之间。由温度变化引起的任何尺寸变化能够通过第二轴承的滑动运动来适应,从而避免外壳因弯曲或屈曲而变形。在其他示例性实施方案中,球形轴承包括固定地安装在中心轴上的第一壳体元件,和抵靠第一壳体元件设置的互补的第一自由元件。第二轴承元件安装在中心轴上,并且外壳附接到第一自由元件并能够旋转地安装到第二轴承元件,其中安装在中心轴上的偏置元件推压第二自由元件远离第一自由元件。
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公开(公告)号:CN112313161B
公开(公告)日:2022-10-21
申请号:CN201980042647.1
申请日:2019-06-21
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 斯科特·L·斯利斯科 , 罗纳德·P·斯万松
Abstract: 本发明公开了一种惰辊,该惰辊具有固定轴,固定轴具有至少一个球形轴承和能够但不必为球形轴承的第二轴承。在一些实施方案中,第二轴承以可滑动方式安装在中心轴上。外壳安装在这些轴承之间。由温度变化引起的任何尺寸变化能够通过第二轴承的滑动运动来适应,从而避免外壳因弯曲或屈曲而变形。在其他示例性实施方案中,球形轴承包括固定地安装在中心轴上的第一壳体元件,和抵靠第一壳体元件设置的互补的第一自由元件。第二轴承元件安装在中心轴上,并且外壳附接到第一自由元件并能够旋转地安装到第二轴承元件,其中安装在中心轴上的偏置元件推压第二自由元件远离第一自由元件。
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公开(公告)号:CN108884567A
公开(公告)日:2018-11-23
申请号:CN201780020902.3
申请日:2017-03-24
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 克里斯托弗·S·莱昂斯 , 比尔·H·道奇 , 约瑟夫·C·斯帕尼奥拉 , 格伦·A·杰里 , 艾美特·R·戈亚尔 , 罗纳德·P·斯万松 , 詹姆斯·N·多布斯
IPC: C23C16/54 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/45551
Abstract: 本发明公开了一种方法。该方法可包括使基底的第一表面上的第一边缘区域与第一支撑辊接合;使基底的第一表面上的第二边缘区域与第二支撑辊接合;在第一支撑辊和第二支撑辊之上传送基底;重复下列步骤序列以在基底上形成薄膜:(a)使基底暴露于第一前体;(b)在将基底暴露于第一前体之后将反应性物质供应给基底;以及将蒸气沉积在薄膜上以在薄膜上形成涂层。
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公开(公告)号:CN104284855B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201280062232.9
申请日:2012-12-07
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 罗纳德·P·斯万松 , 丹尼尔·H·卡尔森 , 詹姆斯·N·多布斯 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德
IPC: B65H23/038
CPC classification number: B65H23/038 , B65H23/0326 , B65H2220/01 , B65H2404/15212 , B65H2511/242 , B65H2553/416 , B65H2553/80
Abstract: 本发明提供了一种用于对幅材(22)进行导向的设备(20),所述设备包括:幅材路径,其具有退出辊(26)和至少一个导向辊(24),每个辊均具有安装座;其中,一个或多个导向辊(26)均具有旋转轴,并且其中所述一个或多个导向辊(26)的安装座能够以总共两个自由度来枢转这些轴。存在包括用于监控幅材(22)的位置的多个传感器(30a)的阵列(30),所述阵列连接至控制器以便确定幅材(22)的位置和角取向。所述控制器调节一个或多个安装座的一次或多次枢转,以便沿着所述幅材路径在特定点处控制所述幅材(22)的角取向和横向位置。
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公开(公告)号:CN102037794A
公开(公告)日:2011-04-27
申请号:CN200980118652.2
申请日:2009-05-20
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 丹尼尔·J·泰斯 , 布赖恩·K·纳尔逊 , 詹姆斯·N·多布斯 , 塞缪尔·基达内 , 罗纳德·P·斯万松 , 丹尼尔·H·卡尔森 , 格兰特·F·蒂芬布鲁克 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德
IPC: H05K3/12
CPC classification number: H05K3/1283 , H05K1/0393 , H05K2201/062 , H05K2203/0143 , H05K2203/1131 , H05K2203/1545
Abstract: 本发明公开了一种将金属导电图案施加到不定长材料幅材上的方法。此方法包括将含有金属的组合物以预定图案施加到幅材上,提供具有很低热质量的卷筒,并将图案化幅材围绕卷筒传送,而同时将热能施加到含有金属的组合物,从而将金属转变为导电图案。这便于柔性电路以低成本的卷到卷工序制作。
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公开(公告)号:CN100596256C
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200680025659.6
申请日:2006-07-11
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: H05K3/143 , B41F15/0836 , B41P2215/12 , C23C14/042 , C23C14/562 , H05K1/0393 , H05K2203/0134 , H05K2203/1545
Abstract: 材料图样被连续沉积到基底上。基底和掩模在圆筒的一部分上被连续地带到一起,在那里沉积源放出材料。掩模包括形成图样的孔,并且来自沉积源的材料穿过掩模的图样并且聚集到基底上以形成材料图样。基底的和掩模的伸长和横向位置可以被控制。基底的图样元件和掩模的图样元件能够被感测到以便调节基底和/或掩模的伸长和/或横向位置以保持精确的对准。此外,孔可能具有在100微米或者更小量级上的最小尺寸,从而在基底上建立具有在100微米或者更小量级上的最小尺寸的特征。
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公开(公告)号:CN101223834A
公开(公告)日:2008-07-16
申请号:CN200680025659.6
申请日:2006-07-11
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: H05K3/143 , B41F15/0836 , B41P2215/12 , C23C14/042 , C23C14/562 , H05K1/0393 , H05K2203/0134 , H05K2203/1545
Abstract: 材料图样被连续沉积到基底上。基底和掩模在圆筒的一部分上被连续地带到一起,在那里沉积源放出材料。掩模包括形成图样的孔,并且来自沉积源的材料穿过掩模的图样并且聚集到基底上以形成材料图样。基底的和掩模的伸长和横向位置可以被控制。基底的图样元件和掩模的图样元件能够被感测到以便调节基底和/或掩模的伸长和/或横向位置以保持精确的对准。此外,孔可能具有在100微米或者更小量级上的最小尺寸,从而在基底上建立具有在100微米或者更小量级上的最小尺寸的特征。
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公开(公告)号:CN108431103A
公开(公告)日:2018-08-21
申请号:CN201680074481.8
申请日:2016-12-12
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 凯文·W·戈特里克 , 克里斯托弗·S·莱昂斯 , 杰拉尔德·S·迪卜 , 张培慧 , 罗纳德·P·斯万松
CPC classification number: C08J7/045 , B05D7/04 , B65D2565/387 , C23C14/0042 , C23C14/08 , Y02W30/806
Abstract: 本发明提供了一种阻挡膜,所述阻挡膜包括阻挡层,所述阻挡层具有两个相对主表面;第一有机层,所述第一有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的一个直接接触;第二有机层,所述第二有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的另一个直接接触;以及基材,所述基材与所述第一有机层或所述第二有机层直接接触;其中所述阻挡层包括平均间距小于所述第一有机层或所述第二有机层中的屈曲变形的平均间距的屈曲变形。
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公开(公告)号:CN103764529B
公开(公告)日:2016-02-17
申请号:CN201280042672.8
申请日:2012-08-29
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: F16B5/0004 , B41F13/0024 , B41J29/02 , B41J29/026 , B65H18/021 , B65H18/028 , B65H49/38 , B65H2402/11 , B65H2402/40 , B65H2511/23 , B65H2701/534 , Y10T403/20
Abstract: 本发明公开了一种至少部分地由具有精确准直点的可重构互连块构造的幅材处理加工机架。用于幅材处理操作的模块式设备幅材处理线可由所述块构造,其中它们的轴安装幅材接触装置特定地形成轨道式,而不需要分离的对齐工序。
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