多模干涉耦合器及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118068484A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202410322258.7

    申请日:2024-03-20

    Abstract: 本发明提出一种多模干涉耦合器及其制备方法,其中,多模干涉耦合器包括高折射率薄膜结构和低折射率结构,高折射率薄膜结构用于传输光场;低折射率结构设于高折射率薄膜结构的表面,用于使光场局限于高折射率薄膜结构内。本申请的技术方案,能够提供一种宽频谱响应的多模干涉耦合器。

    面入射型硅基锗光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN116682880A

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202310756033.8

    申请日:2023-06-25

    Abstract: 本发明公开了一种面入射型硅基锗光电探测器及其制备方法,该硅基锗光电探测器包括:下台面;位于下台面上表面的上台面,上台面包括由预设数目的结构单元周期性排列构成的超构结构;超构结构包括第一n型掺杂锗层和第一本征锗层;第一本征锗层设置在下台面的上表面;第一n型掺杂锗层设置在第一本征锗层的上表面。本发明基于超构结构增强整体器件光与物质间的相互作用,增加了器件在特定波段的光电转化效率,并缩减了载流子的渡越时间,提高了整体器件的响应度,实现面入射型光电探测器响应度和带宽之间的平衡。

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