一种拉丝光纤扭动控制装置、控制方法及多模光纤

    公开(公告)号:CN111620560B

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN202010523604.X

    申请日:2020-06-10

    Abstract: 本发明公开了一种拉丝光纤扭动控制装置、控制方法及多模光纤,属于光纤制造领域,在拉丝通道中的光纤护层涂覆固化装置下方与牵引轮上方区域增加光纤扭动控制装置,进而通过光纤扭动控制装置在垂直光纤方向上对光纤施加周期性旋转力,以使光纤进行周期性扭动。本发明通过增设光纤扭动控制装置对拉丝涂覆保护层固化后的光纤进行扭动及扭动力的传导,消除光纤预制件拉丝时在石墨炉内熔锥区锥型不规则形变的扰动,降低了光纤芯不圆度,改善了光纤预制件拉丝后折射率偏差,提升了折射率分布精确度。由于光纤扭动旋转,优化了光纤中不稳定残余应力的分布,利于降低残余应力带来的对折射率分布偏差的修正。

    一种多模光纤DMD测试设备的探针配准方法及系统

    公开(公告)号:CN111030750B

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN201910952900.9

    申请日:2019-10-09

    Abstract: 一种多模光纤DMD测试设备的探针配准方法,包括以下步骤:分别测试待配准探针沿与待测多模光纤光轴垂直且彼此相互垂直的第一径向与第二径向任一偏移时的差分模式时延数据,并将该差分模式时延数据重心最小值对应的该待配准探针沿该待测多模光纤的第一径向的偏移及第二径向的偏移作为该待配准探针的中心在接收模块中的二维坐标,并通过判断所述二维坐标偏离该接收模块的坐标原点的距离是否超过一预设阈值来确定所述探针是否配准,从而实现了远程实时监测,解决了现有技术中需要实时在现场通过人工手动调节探针以实现配准而造成的成本高、效率低、反馈不及时等问题。

    一种高带宽弯曲不敏感多模光纤

    公开(公告)号:CN108375815B

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN201810344821.5

    申请日:2018-04-17

    Abstract: 本发明涉及一种高带宽弯曲不敏感多模光纤,包括有芯层和包层,所述的包层由内到外依次为内包层、下陷包层和外包层,其特征在于芯层折射率剖面呈抛物线形,分布指数α为2.0~2.3,芯层的半径R1为23~27μm,芯层中心最大相对折射率差Δ1max为0.9%~1.2%,所述的芯层为锗磷氟Ge、P、F三元共掺的二氧化硅玻璃层,芯层中心的P的贡献量ΔP0为0.01%~0.30%,芯层与内包层交界的P的贡献量ΔP1为0.01%~0.30%,芯层中心P含量与芯层边缘保持一致,芯层中心到芯层边缘方向,F掺杂量呈递增状,芯层中心的F的贡献量ΔF0为0.0%~‑0.1%,芯层边缘F的贡献量ΔF1为‑0.40%~‑0.20%。本发明材料组成和芯包层结构设计合理,降低了色度色散,提高了带宽性能,并降低了光纤衰耗。

    一种小芯径兼容型渐变折射率光纤

    公开(公告)号:CN109143463B

    公开(公告)日:2020-05-26

    申请号:CN201811117063.X

    申请日:2018-09-25

    Abstract: 本发明涉及一种小芯径兼容型渐变折射率光纤,包括有芯层和包层,所述的包层由内到外依次为内包层、下陷包层和外包层,其特征在于芯层折射率剖面呈抛物线形,分布指数α为1.9~2.1,芯层的半径R1为10~21μm,芯层中心最大相对折射率差Δ1max为0.7%~1.7%,所述的芯层为锗磷氟Ge、P、F共掺的二氧化硅玻璃层,所述的内包层宽度(R2‑R1)为1.0~5.0μm,相对折射率差Δ2为‑0.30%~0.09%,所述的内包层为磷氟P、F共掺的二氧化硅玻璃层,所述的下陷包层宽度(R3‑R2)为2~10μm,相对折射率差Δ3为‑0.8%~‑0.2%;所述的外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明不仅能与OM3/OM4多模光纤兼容,还能支持850nm~950nm波长范围内的波分复用技术;并能与单模光纤兼容,支持1310nm和1550nm的单模传输;本发明还具有优异的抗弯曲性能。

    高带宽弯曲不敏感多模光纤

    公开(公告)号:CN107193080B

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201710508627.1

    申请日:2017-06-28

    Abstract: 本发明涉及一种高带宽弯曲不敏感多模光纤,包括芯层和围绕芯层的包层,所述的芯层折射率剖面呈抛物线形,其特征在于所述的包层由内到外依次为内包层、第一下陷包层、第二下陷包层和外包层,内包层单边径向宽度(R2‑R1)为1~3μm,相对折射率差Δ2为‑0.2%~0.05%;第一下陷包层单边径向宽度(R3‑R2)为3~8μm,相对折射率差Δ3为‑0.9%~‑0.3%;第二下陷包层单边径向宽度(R4‑R3)为6~30μm,且R4小于或等于58μm,相对折射率差Δ4为‑0.15~‑0.01%;外包层半径R5为60~65μm,相对折射率差Δ5为‑0.15~0.15%。本发明材料组成和结构设计合理,工艺控制方便,能改善和减小光纤内应力分布,增强光纤的抗弯曲性能并增大光纤的带宽。

    一种多模光纤DMD测试设备的探针配准方法及系统

    公开(公告)号:CN111030750A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201910952900.9

    申请日:2019-10-09

    Abstract: 一种多模光纤DMD测试设备的探针配准方法,包括以下步骤:分别测试待配准探针沿与待测多模光纤光轴垂直且彼此相互垂直的第一径向与第二径向任一偏移时的差分模式时延数据,并将该差分模式时延数据重心最小值对应的该待配准探针沿该待测多模光纤的第一径向的偏移及第二径向的偏移作为该待配准探针的中心在接收模块中的二维坐标,并通过判断所述二维坐标偏离该接收模块的坐标原点的距离是否超过一预设阈值来确定所述探针是否配准,从而实现了远程实时监测,解决了现有技术中需要实时在现场通过人工手动调节探针以实现配准而造成的成本高、效率低、反馈不及时等问题。

    一种高带宽弯曲不敏感多模光纤

    公开(公告)号:CN107102400A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201710507899.X

    申请日:2017-06-28

    Abstract: 本发明涉及一种高带宽弯曲不敏感多模光纤,包括芯层和围绕芯层的包层,所述的芯层折射率剖面呈抛物线形,其特征在于所述的包层由内到外依次为内包层、下陷包层、第一外包层和第二外包层,内包层半径为R2,单边径向宽度(R2‑R1)为1~3μm,相对折射率差Δ2为‑0.2%~0.05%;下陷包层半径为R3,单边径向宽度(R3‑R2)为4~8μm,相对折射率差Δ3为‑0.8%~‑0.2%;第一外包层半径为R4,R4小于或等于58μm,相对折射率差Δ4为0.01~0.2%;第二外包层半径R5为60~65μm,相对折射率差Δ5为‑0.1~0.1%。本发明光纤材料组成和结构设计合理,能改善和减小光纤内应力分布,减小光纤剖面的畸变,增强光纤的抗弯曲性能和带宽。

    一种抗弯曲光纤及其制备方法

    公开(公告)号:CN113946012B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202111285806.6

    申请日:2021-11-02

    Abstract: 本发明涉及一种抗弯曲光纤及其制备方法,包括有芯层和包覆芯层的内包层,内包层外包覆有外包层,其特征在于所述的外包层为氟硼钛混合掺杂的纳米多孔二氧化硅薄膜层,所述外包层的相对折射率差Δ3为‑0.70%~‑1.60%。外包层由氟硼钛混合掺杂的二氧化硅溶胶‑凝胶涂覆后经高温固化而成。本发明折射率低,抗弯曲性能好;可适于弯曲性能极高的场合和环境使用;溶胶‑凝胶法制备纳米多孔二氧化硅薄膜只需要简单的提拉装置和固化炉,不需要复杂的真空系统,其设备简单,原材料成本低廉。薄膜厚度和成分易控制、与玻璃结合力强、热稳定性优异,掺杂和折射率易控制。掺杂和折射率易控制,拉丝和外包层涂覆一并合成,制作成本低。

    一种小芯径渐变折射率光纤

    公开(公告)号:CN108983350B

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN201811116297.2

    申请日:2018-09-25

    Abstract: 本发明涉及一种小芯径渐变折射率光纤,包括有芯层和包层,所述的包层由内到外依次为内包层、下陷包层和外包层,其特征在于芯层折射率剖面呈抛物线形,分布指数α为1.9~2.1,芯层的半径R1为10~21μm,芯层中心最大相对折射率差Δ1max为0.7%~1.7%,所述的内包层为纯二氧化硅层或掺F的二氧化硅玻璃层,单边宽度(R2‑R1)为0.5~5μm,相对折射率差Δ2为‑0.4%~0%,所述的下陷包层单边宽度(R3‑R2)为2~10μm,相对折射率差Δ3为‑0.8%~‑0.2%,所述的外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明光纤不仅能与现有OM3/OM4多模光纤兼容,还能支持850nm~950nm波长范围内的波分复用技术;光纤的基模LP01的MFD与单模光纤进行匹配,能与单模光纤兼容,支持1310nm和1550nm的单模传输。

    一种大尺寸弯曲不敏感多模光纤预制棒的制备方法

    公开(公告)号:CN105060701B

    公开(公告)日:2018-09-18

    申请号:CN201510444816.8

    申请日:2015-07-24

    Abstract: 本发明涉及一种大尺寸弯曲不敏感多模光纤预制棒的制备方法,先通过管内法进行掺杂沉积,形成多模光纤芯层,沉积完成后,通过加热炉将沉积管熔缩成实心芯棒,以制得的芯棒为靶棒,通过管外法工艺进行掺杂沉积,分别沉积下陷包层和外包层;或者,用纯石英玻璃外衬管通过管内法工艺进行负掺杂,构成预制棒的下陷包层和外包层;然后将制得的芯棒与沉积好的外套管组合成用于RIT工艺的光纤预制棒,或者将制得的芯棒与掺氟或硼的石英玻璃套管套装组合用SCR工艺将两者熔缩成实心棒,再将该实心棒与大直径外套管组合成用于RIT工艺的光纤预制棒。本发明制得的光纤预制棒不仅外径尺寸大,芯层精度高,而且制作成本低,方法简便灵活,适合大规模生产。

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