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公开(公告)号:CN101886281A
公开(公告)日:2010-11-17
申请号:CN201010213224.2
申请日:2010-06-30
Applicant: 长春理工大学
Abstract: 本发明涉及一种Si-ZnO一维纳米材料及其制备方法,属于半导体材料技术领域。在现有具有Si-ZnO结构的材料中,尚无ZnO纳米线生长在Si纳米线上的材料;现有制备具有Si-ZnO结构的材料的方法如分子束外延其设备昂贵、工艺复杂、成本高。本发明之方法属于电化学沉积方法,首先配制先驱体水溶液,其中以硝酸锌为锌源,以六次甲基四胺作为表面活性剂,硝酸锌与六次甲基四胺物质的量相等;然后进行电化学沉积,将所配制的先驱体水溶液转入三电极体系,其中以Si纳米线作为工作电极,箔片作为辅助电极,Ag/AgCl作为参比电极,沉积温度为80~90℃,沉积时间为5~30min,沉积电位为-1.15~-1.95V。在产物中ZnO纳米线生长在Si纳米线上。