公开(公告)号：CN119352010A

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN202411355276.1

申请日：2024-09-27

Applicant: 长安大学

Inventor： 花日敏 ,  严凯 ,  徐义库 ,  赵秦阳 ,  陈永楠 ,  刘思怡 ,  李雯婷 ,  杨靖 ,  齐昌浩 ,  刘思源

IPC: C23C24/10 ,  C22C30/00 ,  B22F1/065 ,  B22F9/04

Abstract: 本发明专利公开了一种激光熔覆双层结构耐磨涂层及其制备方法，具体涉及材料表面改性技术领域。所述耐磨涂层由打底层和顶层构成，所述打底层为中熵涂层，中熵涂层中Co、Cr、Ni球形金属粉末的原子百分比为1:1:1，中熵涂层用于避免涂层与涂层之间、涂层与基体之间的裂纹形成，所述顶层采用高熵涂层，高熵涂层中Co、Cr、Fe、Ni、Al球形金属粉末的原子百分比为1:1:1:1:0.6/0.8/1.0，高熵涂层用于提高基体的耐磨性能。采用本发明技术方案解决了高熵涂层与不锈钢基体因热膨胀系数、物理化学性能相差较大，熔覆后极易在高熵涂层表面形成裂纹甚至开裂的问题，有效的改善了目前市场已有316L不锈钢硬度低、耐磨性差的缺点。

公开(公告)号：CN116288565A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202310227370.8

申请日：2023-03-10

Applicant: 长安大学

Inventor： 徐义库 ,  高越 ,  梁斌娟 ,  陈永楠 ,  赵秦阳 ,  李雯婷 ,  刘思怡

IPC: C25D5/00 ,  C25D15/00 ,  C25D3/02

Abstract: 本发明公开了一种在纯铜表面沉积Ni‑P/Ni‑Mo‑SiC‑TiN复合结构镀层的方法，涉及电沉积处理技术领域，其技术方案要点是：包括制备电解液一、铜试样板在电解液一中生长Ni‑P复合结构镀层、制备电解液二、铜试样板在电解液二的环境下在Ni‑P复合结构镀层表面生长一层均匀的Ni‑Mo‑SiC‑TiN复合结构镀层。该方法可以快速在纯铜表面获得均匀、致密的Ni‑P/Ni‑Mo‑SiC‑TiN复合结构镀层，此方法具有高效、节能、深镀能力好的优点，同时铜试样的屈服强度、平台应力、单位体积吸收能量的大小等机械性能和耐腐蚀性能显著提高，扩大了纯铜的应用领域。