公开(公告)号：CN116815124A

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN202310858349.8

申请日：2023-07-13

Applicant: 郑州航空工业管理学院

Inventor： 黄亚博 ,  王旭磊 ,  孙逸翔 ,  任文慧 ,  黄宝柱 ,  高阳 ,  武晓歌 ,  郭晓琴

IPC: C23C14/18 ,  C23C14/35 ,  C23C14/58

Abstract: 本发明属于半导体制备技术领域，公开一种低界面热阻氮化镓/金刚石材料的制备方法。S1、制备多晶金刚石膜，随后对其切割、研磨、抛光；S2、将氮化镓晶圆和步骤S1制备的金刚石膜分别清洗后，采用磁控溅射技术在氮化镓的氮面和金刚石膜单面分别镀制银铜钛合金介质层；S3、ICP刻蚀步骤S2所得氮化镓和金刚石膜的银铜钛合金介质层，得到刻蚀层；刻蚀结束后，清洗，真空烘干备用；S4、将步骤S3所得氮化镓和金刚石膜的刻蚀层上下面对面堆叠放置作为键合试样，然后直流电弧等离子体加热，得到目标产品。本发明通过介质层设计和独特的键合加热方式，能够在很大程度上提升氮化镓和金刚石的键合强度以及减低界面热阻。

公开(公告)号：CN116752110A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202310740183.X

申请日：2023-06-21

Applicant: 郑州航空工业管理学院

Inventor： 黄亚博 ,  王旭磊 ,  孙逸翔 ,  高阳 ,  黄宝柱 ,  郭晓琴 ,  张君豪

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08

Abstract: 本发明属于金刚石材料的制备技术领域，公开一种用于光学窗口的金刚石材料的制备方法。步骤为：S1、制备光学级多晶金刚石膜，随后对其切割、研磨、抛光、清洗；S2、在步骤S1制备的金刚石膜表面ICP刻蚀光学减反微结构层，刻蚀结束后清洗、烘干，放入真空皿备用；S3、采用磁控溅射技术，在步骤S2制备的金刚石膜的光学减反微结构层表面镀制稀土氧化增透膜，并依据步骤S2制备的带有光学减反微结构层的金刚石膜的折射率和光学增透膜理论设定镀制的稀土氧化增透膜的厚度；所述磁控溅射技术为预镀制和变速镀制相结合的方式。本发明制备的金刚石材料红外透过率高、热稳定性优异，特别适用于红外窗口等领域的应用需求。