一种微弧氧化CrAlN涂层的复合制备方法

    公开(公告)号:CN112226768A

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN202011090557.0

    申请日:2020-10-13

    Abstract: 本发明公开一种微弧氧化CrAlN涂层的复合制备方法,制备的复合涂层由三层组成,分别是200‑300nm的纯Cr过渡层,2‑5μm的CrAlN中间层和300‑500nm的Al2O3和Cr2O3的密封层。该方法首先通过磁控溅射技术在基体表面沉积一层均匀的结合力高的纯Cr层和CrAlN涂层,再通过微弧氧化用氧替代氮原子,形成Al2O3、Cr2O3相,进一步增加涂层的致密度,使涂层具备高抗磨蚀性能。本发明可有效避免仅用磁控溅射沉积氧化物涂层时,高氧通量带来的靶中毒;仅用微弧氧化涂层与基体的结合力相对较差,易脱落,适用范围窄等问题。通过本发明可制备出均匀性好、结合力强、且具有良好耐磨和耐蚀性能的高性能涂层,延长工件的使用寿命。

    一种微弧氧化CrAlN涂层的复合制备方法

    公开(公告)号:CN112226768B

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202011090557.0

    申请日:2020-10-13

    Abstract: 本发明公开一种微弧氧化CrAlN涂层的复合制备方法,制备的复合涂层由三层组成,分别是200‑300nm的纯Cr过渡层,2‑5μm的CrAlN中间层和300‑500nm的Al2O3和Cr2O3的密封层。该方法首先通过磁控溅射技术在基体表面沉积一层均匀的结合力高的纯Cr层和CrAlN涂层,再通过微弧氧化用氧替代氮原子,形成Al2O3、Cr2O3相,进一步增加涂层的致密度,使涂层具备高抗磨蚀性能。本发明可有效避免仅用磁控溅射沉积氧化物涂层时,高氧通量带来的靶中毒;仅用微弧氧化涂层与基体的结合力相对较差,易脱落,适用范围窄等问题。通过本发明可制备出均匀性好、结合力强、且具有良好耐磨和耐蚀性能的高性能涂层,延长工件的使用寿命。

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