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公开(公告)号：CN111139426A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN202010105993.4
申请日：2020-02-20
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及一种超高强冷轧钢板切割刀具涂镀层及方法，该渗氮涂镀层分为两层：一层为与基材相接的渗氮层、渗碳层、渗硅层中的一种以上，厚度为4～10μm；二层为沉积在一层的纳米金属氮化物陶瓷层、纳米金属碳化物陶瓷层或纳米金属硅化物陶瓷层中的两种以上混合物，厚度为0.1～10μm；所述的基材为高速钢。优点是：采用热丝辅助等离子体增强磁控溅射方法在高速钢为基材的冷轧钢板用剪切刀具表面制备渗氮和陶瓷涂层的强化层，为超高强钢冷轧钢板剪切问题提供解决方案。相较于传统的磁控溅射技术，等离子体增强效果明显，可以实现对基体表面的等离子体氮化，提高基体强、硬度。
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公开(公告)号：CN110484859B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201910942643.0
申请日：2019-09-30
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及利用辉光放电低温等离子体法在钛合金表面渗氮的方法，包括以下步骤：1)TC4钛合金基体打磨抛光碱洗，酸洗；2)真空清洗：将基体悬挂于辉光低温等离子体渗氮设备的真空腔体中，抽真空，控制氩气流量，除多余空气；开照明，进一步除水蒸气；抽真空，真空腔体内加热，保温，进一步除水蒸气；真空腔体内通入氩气和氮气；脉冲等离子体清洗；3)渗氮；本发明方法简单易行，所需温度低且容易控制，不会对试样本身的组织及力学性能有影响。
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公开(公告)号：CN110551992A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910942611.0
申请日：2019-09-30
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及一种在超级马氏体不锈钢表面制备DLC薄膜的方法，用13Cr超级马氏体不锈钢作为基体进行镀膜；在真空腔体内设金属网笼，带有防爆口的空心玻璃砖放设在真空腔体内，在绝缘玻璃砖上放置金属网笼，所述的金属网笼前后左右四面开口，使电子逃逸形成回路；将基体打磨后超声清洗，再放置于真空腔体的金属网笼内部进行高压清洗，基体的待镀膜面向上；在镀膜前制备Si/Si-C过渡层，提高膜基结合力；使用等离子体增强化学气相沉积技术制备DLC薄膜。优点是：基体的高模量解决了DLC薄膜制备过程中应力过大的问题。在超级马氏体不锈钢表面制备的DLC薄膜，结构致密、明显提高了基体硬度以及减摩耐蚀等性能。
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公开(公告)号：CN108486542A
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201810479961.3
申请日：2018-05-18
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及一种用于磁控溅射的转架装置，包括由侧壁、顶板和底板组成的反应腔体，设置在反应腔体内的工作托盘、主轴和工作托盘运动机构，其特征在于在所述的反应腔体内设有基台，其基台将反应腔体分成上腔体和下腔体，所述的工作托盘设置在主轴上，所述的工作托盘运动机构包括自转机构和公转机构。本发明的有益效果是：本发明克服了传统工件转架旋转方式单一的缺点，增加了工件运动的自由度，使工件的每个面都可以被靶材溅射出的粒子均匀覆盖，有效解决了工件棱边涂层不均的问题，增强了涂层效果。
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公开(公告)号：CN110527969A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910942636.0
申请日：2019-09-30
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及利用热丝增强等离子体磁控溅射法制备铁磁非晶膜的方法，包括以下步骤：1)镀膜前清洗：将基体置于等离子体增强磁控溅射设备的腔体内，抽真空；加热除水蒸汽；清洗靶；2)镀膜：热丝增强等离子体磁控溅射设备的腔体四周缠绕4根灯丝，腔体四壁分别设置矩形靶材，其中一块以上靶材为非晶铁磁薄带；腔体内通入氩气，氩气；打开挡板，开始溅射；镀膜时腔体内的温度为25℃～100℃。本发明将磁控溅射技术应用于制备铁磁非晶膜领域；通过调节加在灯丝上的偏压来提高氩气的离化率及氩离子的轰击速度，进一步提高了膜基结合强度和薄膜的致密性。磁控溅射离子轰击基体，活化基体表面，提高膜层与基体表面之间的结合力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110484890B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201910942622.9
申请日：2019-09-30
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及一种提高喷号机喷针表面耐磨性的方法，在真空腔体四周1～4个靶座上安装镀膜所需的铬、钛、铝、硅靶材；清洗喷针：依次经碱洗、工业清洗剂超声波清洗、酒精清洗；镀膜前真空清洗：将喷针固定在真空腔体内自转架上，预抽真空，开分子泵，抽真空，加热，保温，通氩气及氮气；开1～4根灯丝，偏压清洗，清洗靶；镀膜：调节基体直流偏压，控制氩气流量，氮气流量，真空腔体压强控制在0.3～2.0Pa之间；开1～4个靶电源，开始溅射，直到镀膜结束。本发明采用真空磁控溅射镀的方法在喷针表面制备的氮化物薄膜，显著提高了喷针表面的耐磨性，而且薄膜具有较好的结合力，不易脱落。
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公开(公告)号：CN109023223B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201811018958.8
申请日：2018-09-03
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明的目的在于克服现有技术中发蓝工艺的缺陷，提供一种利用低温等离子体的金属表面发蓝方法，属于金属材料表面处理技术领域。该方法利用真空装备在一定气压下施加电场，使惰性气体和H2O分子发生辉光放电并离化，形成低温等离子体，产生具有活化作用的O2+离子。O2+离子受施加在钢材或钢件上的负电位吸引，轰击工件表面。活性O2+离子与钢工件表面铁化合，发生蓝化反应。制备的发蓝氧化膜致密、美观，成本低、操作简单，有利于工业化生产，无污染。本发明的制备方法实现了低温等离子体发蓝处理，应用范围广泛。
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公开(公告)号：CN110484890A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910942622.9
申请日：2019-09-30
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及一种提高喷号机喷针表面耐磨性的方法，在真空腔体四周1～4个靶座上安装镀膜所需的铬、钛、铝、硅靶材；清洗喷针：依次经碱洗、工业清洗剂超声波清洗、酒精清洗；镀膜前真空清洗：将喷针固定在真空腔体内自转架上，预抽真空，开分子泵，抽真空，加热，保温，通氩气及氮气；开1～4根灯丝，偏压清洗，清洗靶；镀膜：调节基体直流偏压，控制氩气流量，氮气流量，真空腔体压强控制在0.3～2.0Pa之间；开1～4个靶电源，开始溅射，直到镀膜结束。本发明采用真空磁控溅射镀的方法在喷针表面制备的氮化物薄膜，显著提高了喷针表面的耐磨性，而且薄膜具有较好的结合力，不易脱落。
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公开(公告)号：CN110484859A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910942643.0
申请日：2019-09-30
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明涉及利用辉光放电低温等离子体法在钛合金表面渗氮的方法，包括以下步骤：1)TC4钛合金基体打磨抛光碱洗，酸洗；2)真空清洗：将基体悬挂于辉光低温等离子体渗氮设备的真空腔体中，抽真空，控制氩气流量，除多余空气；开照明，进一步除水蒸气；抽真空，真空腔体内加热，保温，进一步除水蒸气；真空腔体内通入氩气和氮气；脉冲等离子体清洗；3)渗氮；本发明方法简单易行，所需温度低且容易控制，不会对试样本身的组织及力学性能有影响。
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公开(公告)号：CN109023223A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201811018958.8
申请日：2018-09-03
Applicant: 辽宁科技大学
Abstract: 本发明的目的在于克服现有技术中发蓝工艺的缺陷，提供一种利用低温等离子体的金属表面发蓝方法，属于金属材料表面处理技术领域。该方法利用真空装备在一定气压下施加电场，使惰性气体和H2O分子发生辉光放电并离化，形成低温等离子体，产生具有活化作用的O2+离子。O2+离子受施加在钢材或钢件上的负电位吸引，轰击工件表面。活性O2+离子与钢工件表面铁化合，发生蓝化反应。制备的发蓝氧化膜致密、美观，成本低、操作简单，有利于工业化生产，无污染。本发明的制备方法实现了低温等离子体发蓝处理，应用范围广泛。
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