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公开(公告)号:CN100519530C
公开(公告)日:2009-07-29
申请号:CN03802481.0
申请日:2003-01-20
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: C07D213/64 , C07D401/12 , C07D417/02 , C09B55/00 , G11B7/24
CPC classification number: G11B7/247 , C09B55/003 , C09B55/006 , C09B57/10 , G11B7/244 , G11B7/2467 , G11B7/249 , G11B7/2534 , G11B7/2542 , G11B7/258
Abstract: 本发明涉及包括基材、记录层和反射层的光学记录介质,其中所述记录层包括式(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)的化合物或其互变异构体或其盐。其中各取代基的精确定义参见说明书。具体在350nm至500nm的波长范围内例如用蓝色激光进行记录和读出。记录和读出的质量优异并且具有高的储存密度。此外,还要求保护在380nm至440nm的范围内进行记录和读出的光学记录介质,该介质包括在300nm至400nm的波长范围具有最大吸收的化合物和式(IX)的化合物。
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公开(公告)号:CN101006139A
公开(公告)日:2007-07-25
申请号:CN200580028164.4
申请日:2005-07-06
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC classification number: C09B69/045 , C09B45/20 , C09B45/34
Abstract: 本发明涉及包括基层、反射层和记录层的光学记录介质,其中记录层包括式(I)化合物或其内消旋或互变异构体形式,其中M1是+3氧化态的金属阳离子、羟基或其中金属是+4氧化态的卤化金属基团或其中金属是+5氧化态的氧代金属基团;(III)和(IV)分别独立于其它(V)、(VI)或(VII);(VII)是(IX)、(X)、(XI)、(XII)、(XIII)或(XIV);(XV)是(XVI)或C2-C8杂芳基,所述杂芳基是未取代的或者被R10、R11、R12和/或R13单取代或多取代;Q1是N或CR18,Q2是N或CR19,Q3、Q5和Q7分别彼此独立地为CR20R21、O、S或NR22,Q4是CR16或N,并且Q6是CR17或N;以及R2和/或R6是O、S或NR33。对于其它较不相关的取代基请参见说明书的公开。式(I)化合物是新的并且也要求保护,以及式(II)化合物或其内消旋或互变异构体形式,其中R38是卤素、CF3、NO2、CN、COR22、COOR23、SO3R23、NCO或SCN,G1、G2、M1、R1、R2、R4、R5、R6、R8、R22和R23如式(I)中所定义,M2m+是具有m个正电荷的阳离子,并且m是整数1、2或3。该光学记录介质特别适于,尤其是在高记录速度下适于DVD±R(658nm)。
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公开(公告)号:CN1211436C
公开(公告)日:2005-07-20
申请号:CN99813048.6
申请日:1999-11-03
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC classification number: C09B67/0051 , D06P1/38 , D06P3/66 , Y10S8/918
Abstract: 染料混合物,其包含至少一种式(1)的染料以及至少一种式(2)的染料,其中R1、R2、R4和R5各自相互独立为氢或者未取代或取代的C1-C4烷基,(R3)0-2是0到2个相同或不同选自包括卤素、C2-C4烷酰氨基、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基的取代基,A1和A2为各自相互独立的未取代或取代的亚苯基或可用氧隔开的C1-C8亚烷基,D为具有式(3)或(4)的基团,其中(R6)0-2是0到2个相同或不同选自包括卤素、C2-C4烷酰氨基、C1-C4烷基和C1-C4烷氧基的取代基,X1和X2为卤素,Y1和Y2各自相互独立为具有式(5a)、(5b)、(5c)或(5d)的其它纤维活性基团:-SO2-Z(5a),-CONH-(CH2)m-SO2-Z(5b),-NH-CO-CH(Hal)-CH2Hal(5c)。
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公开(公告)号:CN1620691A
公开(公告)日:2005-05-25
申请号:CN03802481.0
申请日:2003-01-20
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: G11B7/24 , C07D213/64 , C07D401/12 , C07D417/02 , C09B55/00
CPC classification number: G11B7/247 , C09B55/003 , C09B55/006 , C09B57/10 , G11B7/244 , G11B7/2467 , G11B7/249 , G11B7/2534 , G11B7/2542 , G11B7/258
Abstract: 本发明涉及包括基材、记录层和反射层的光学记录介质,其中所述记录层包括式(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)的化合物或其互变异构体或其盐。其中各取代基的精确定义参见说明书。具体在350nm至500nm的波长范围内例如用蓝色激光进行记录和读出。记录和读出的质量优异并且具有高的储存密度。此外,还要求保护在380nm至440nm的范围内进行记录和读出的光学记录介质,该介质包括在300nm至400nm的波长范围具有最大吸收的化合物和式(IX)的化合物。
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公开(公告)号:CN1264936C
公开(公告)日:2006-07-19
申请号:CN01821244.1
申请日:2001-12-12
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC classification number: C09D11/328
Abstract: 本发明涉及一种通过喷墨打印工艺打印片状基材的方法,该方法包括,将这些材料用包含以下物质的墨水打印:a)至少一种式(I)染料,其中R1和R2各自独立地是氢或未取代的或取代的C1-C4烷基,R3和R4各自独立地是未取代的或取代的C1-C4烷基,R5和R6各自独立地是C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,卤素,羟基,羧基,C2-C4烷酰基氨基或磺基,X是卤素,羟基,在烷基部分中未被取代或被取代的C1-C4烷氧基,在苯环中未被取代或被取代的苯氧基,在烷基部分中未被取代或被取代的C1-C4烷硫基,在苯环中未被取代或被取代的苯硫基,氨基,在烷基部分中未被取代或被取代的和在烷基部分中未被氧间隔或被氧间隔的N-单-或N,N-二-C1-C6烷基氨基,在环烷基环中未被取代或被取代的C5-C7环烷基氨基,在芳基部分中未被取代或被取代的苯基氨基或萘基氨基,在芳基部分中未被取代或被取代的N-C1-C4烷基-N-苯基氨基或N-C1-C4烷基-N-萘基氨基,在苯基部分中未被取代或被取代的苄基氨基,吗啉代或哌啶-1-基,和n和m各自独立地是数字0,1,2或3;和b)增溶剂或湿润剂。
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公开(公告)号:CN1483066A
公开(公告)日:2004-03-17
申请号:CN01821244.1
申请日:2001-12-12
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC classification number: C09D11/328
Abstract: 本发明涉及一种通过喷墨打印工艺打印片状基材的方法,该方法包括,将这些材料用包含以下物质的墨水打印:a)至少一种式(I)染料,其中R1和R2各自独立地是氢或未取代的或取代的C1-C4烷基,R3和R4各自独立地是未取代的或取代的C1-C4烷基,R5和R6各自独立地是C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,卤素,羟基,羧基,C2-C4烷酰基氨基或磺基,X是卤素,羟基,在烷基部分中未被取代或被取代的C1-C4烷氧基,在苯环中未被取代或被取代的苯氧基,在烷基部分中未被取代或被取代的C1-C4烷硫基,在苯环中未被取代或被取代的苯硫基,氨基,在烷基部分中未被取代或被取代的和在烷基部分中未被氧间隔或被氧间隔的N-单-或N,N-二-C1-C6烷基氨基,在环烷基环中未被取代或被取代的C5-C7环烷基氨基,在芳基部分中未被取代或被取代的苯基氨基或萘基氨基,在芳基部分中未被取代或被取代的N-C1-C4烷基-N-苯基氨基或N-C1-C4烷基-N-萘基氨基,在苯基部分中未被取代或被取代的苄基氨基,吗啉代或哌啶-1-基,和n和m各自独立地是数字0,1,2或3;和b)增溶剂或湿润剂。
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公开(公告)号:CN1757066A
公开(公告)日:2006-04-05
申请号:CN200480005575.7
申请日:2004-02-23
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: G11B7/24 , C07D403/02
CPC classification number: G11B7/246 , C07D413/12 , C07D417/12 , G11B7/2472 , G11B7/2475 , G11B7/2478 , G11B7/2492 , G11B7/2495 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/2575 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25713 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716
Abstract: 本发明涉及一种光记录介质,它包含基材、反射层和基于通式(I)化合物的记录层,其中G1和G2彼此独立,A1和A2彼此独立地是N(R12)、O、S或Se,而A3是C(C1~C5烷基)2、C(C4~C5亚烷基)、N(R12)、O、S、Se、N=C(R13)或未取代的或者R14-取代的CH=CH;M1是族IX~XII的过渡金属,优选Co、Cu、Ni、Pd或Zn,尤其是Co、Cu或Ni;Q1和Q2彼此独立地是C(R15)、N或P……有关其它取代基的细节,参见正文。记录和回放尤其以350~500nm的波长,例如,采用蓝色激光实施的。记录和回放品质卓越并允许高存储密度。还公开通式(I)的新化合物,但J.Org.Chem.67/16,5753-5772中公开的化合物除外。
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公开(公告)号:CN1339052A
公开(公告)日:2002-03-06
申请号:CN00803479.6
申请日:2000-01-26
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC classification number: C09D11/32 , C09B43/16 , C09B62/04 , C09B62/4403 , C09B67/0041 , C09B67/0046 , C09D11/17 , C09D11/18 , C09D11/328 , D06P5/30
Abstract: 本发明公开了黑色染色含水油墨,包含:20-95%重量的至少一种染料(A)、以及5-80%重量的至少一种选自(B)和(C)的染料,以油墨中染料(A)、(B)和(C)的总重为基,和1-40%重量的水可混溶有机溶剂,以所述油墨的总重为基,所述染料(A)包含一个或多个具有结构式(I)、(II)、(III)或(IV)的基团作为该分子的着色部分,所述染料(B)包含一个或多个含磺基的单-或双偶氮基团或一个或多个具有结构式(V)、(VI)、(VII)或(VIII)的基团作为该分子的着色部分,且所述染料(C)包含一个或多个含磺基的单-或双偶氮基团或一个或多个具有上述结构式(V)、(VI)、(VII)或(VIII)的基团和一个或多个具有上述结构式(I)、(II)、(III)或(VI)的基团作为该分子的着色部分,其中:(G)0-2是0-2个选自取代或未取代氨基、羟基和硝基的相同或不同取代基,L是取代或未取代氨基,R是卤素、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰基氨基、羟基、羧基、硝基或氰基,(V)0-2是0-2个选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、β-硫酸根合乙基磺酰基和磺基的相同或不同取代基,(W)0-1是N-酰基,如果有的话,n是0、1、2或3,m是1、2或3,且r和q是0或1。按照本发明的油墨以在人工光(条件等色)上没有色调变化的良好黑色色调为特征,同时具有突出的耐晒牢度。
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公开(公告)号:CN1771546A
公开(公告)日:2006-05-10
申请号:CN200480009400.3
申请日:2004-02-25
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
Abstract: 本发明涉及了包括基材、反射层和记录层的光学记录介质,其中记录层包括式[L1Mr-4L2]o[Am-]p[Zn+]q(I)、[L1Mr-3L3]o[Am-]p[Zn+]q(II)或[L3Mr-2L4]o[Am-]p[Zn+]q(III)的化合物,或可使用的上述化合物的内消旋形式或者互变异构形式,其中L1和L2各自独立,和L3和L4各自独立;其中Q1为CR1或N,Q2为O、S、NR10或Q5=Q8,Q3是CR3或N,Q4是O、S、NR10或Q7=Q8,Q5是CR5或N,Q6是CR6或N、Q7是CR7或N,Q8是CR8或N,并且Q9是O、S、NR10或Q6=Q8;Mr、Am-、Zn+、R2和R9如权利要求中的定义。
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公开(公告)号:CN1325427A
公开(公告)日:2001-12-05
申请号:CN99813048.6
申请日:1999-11-03
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC classification number: C09B67/0051 , D06P1/38 , D06P3/66 , Y10S8/918
Abstract: 染料混合物,其包含至少一种式(1)的染料以及至少一种式(2)的染料,其中R1、R2、R4和R5各自相互独立为氢或者未取代或取代的C1-C4烷基,(R3)0-2是0到2个相同或不同选自包括卤素、C2-C4烷酰氨基、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基的取代基,A1和A2为各自相互独立的未取代或取代的亚苯基或可用氧隔开的C1-C8亚烷基,D为具有式(3)或(4)的基团,其中(R6)0-2是0到2个相同或不同选自包括卤素、C2-C4烷酰氨基、C1-C4烷基和C1-C4烷氧基的取代基,X1和X2为卤素,Y1和Y2各自相互独立为具有式(5a)、(5b)、(5c)或(5d)的其它纤维活性基团:-SO2-Z(5a),-CONH-(CH2)m-SO2-Z(5b),-NH-CO-CH(Hal)-CH2Hal(5c)。
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