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公开(公告)号：CN1653531A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810473.3
申请日：2003-04-15
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: G11B7/24 , C07D491/14
CPC classification number: G11B7/246 , C07D491/14 , C07F15/065 , C07F17/02 , C09B11/24 , C09B23/04 , C09B45/18 , C09B45/20 , C09B45/22 , C09B45/30 , C09B47/045 , C09B50/00 , C09B55/007 , C09B56/00 , C09B57/007 , C09B57/10 , C09B69/04 , C09B69/045 , G11B7/248 , G11B7/249 , G11B7/2534 , G11B7/259
Abstract: 本发明涉及一种由基底、反射层和记录层组成的光学记录介质，其中记录层由式(I)、(II)、(III)的化合物所组成，式中的R1至R13分别可以是氢或不同的取代基，而R1和R11不同时为氢；Ym－是无机、有机和有机金属阴离子或者它们的混合物；Zn+是质子和金属阳离子、铵阳离子或阳离子或它们的化合物；m，n和o各自分别表示1至3的整数；和p和q各自为0至4的数，o，p和q彼此的比例取决于有关的次级结构的电荷以使式(I)(II)或(III)没有多余的正和负电荷。另一发明点是在制备有有机金属阴离子的式(I)(II)或(III)的化合物时采用了高氯酸呫吨酯，而且在通过旋涂在刻了槽的基底上加染料层时使用了乳酸酯。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100445335C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN02808475.6
申请日：2002-04-09
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
Inventor： J·贝里希 , R·布拉特纳 , J-L·布德里 , W·弗雷塔 , C·莫尔顿 , G·A·穆菲 , B·施密德哈尔特 , M·舒尔茨 , H·斯帕尼 , C·斯泰恩 , A·沃勒布 , H·沃勒布 , R·策尔珀
CPC classification number: G11B7/248 , C09B67/0035 , G11B7/26 , Y10S430/146
Abstract: 可以通过在催化剂存在下使包含两种酞菁(I)和(II)的混合物A与金属茂衍生物反应获得的金属茂基酞菁的混合物，以及低聚的金属茂基酞菁，其制备方法，其尤其用于光记录和光记录介质的用途。
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公开(公告)号：CN1503827A
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN02808475.6
申请日：2002-04-09
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
Inventor： J·贝里希 , R·布拉特纳 , J-L·布德里 , W·弗雷塔 , C·莫尔顿 , G·A·穆菲 , B·施密德哈尔特 , M·舒尔茨 , H·斯帕尼 , C·斯泰恩 , A·沃勒布 , H·沃勒布 , R·策尔珀
CPC classification number: G11B7/248 , C09B67/0035 , G11B7/26 , Y10S430/146
Abstract: 可以通过在催化剂存在下使包含两种酞菁(I)和(II)的混合物A与金属茂衍生物反应获得的金属茂基酞菁的混合物，以及低聚的金属茂基酞菁，其制备方法，其尤其用于光记录和光记录介质的用途。
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公开(公告)号：CN1816553A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200480019155.4
申请日：2004-06-28
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: C07D491/04 , C07D487/04
CPC classification number: C07D487/04 , C07D491/04
Abstract: 本发明涉及一种制备通式(I)的呋喃并吡咯的方法：所述方法包括任选在惰性溶剂存在下，在微波辐射下加热式(II)化合物，其中A1和A2为C1－C18烷基、C2－C18链烯基、C2－C18炔基、C5－C8环烷基、C5－C8环烯基、芳基或杂芳基，A3为氢、C1－C18烷基、氰甲基、Ar3、－CR30R31－(CH2)m－Ar3或Y－R32，其中R30和R31各自独立表示氢或C1－C4烷基或可被最高达3个C1－C4烷基取代的苯基，Ar3为芳基、C5－C8环烷基、C5－C8环烯基或杂芳基，各基团可被1－3个C1－C8烷基、C1－C8烷氧基、卤素或可被1－3个C1－C8烷基或C1－C8烷氧基取代的苯基取代，m表示0、1、2、3或4，R为C1－C18烷基，特别是C1－C4烷基；芳基，特别是苯基；或芳烷基，特别是苄基，各基团可被1－3个C1－C8烷基、C1－C8烷氧基或卤素取代，Y为－C(O)－、－C(O)O－、－C(O)NH－、－SO2NH－或－SO2－，和R32为C1－C18烷基、Ar3或芳烷基。通过本发明的方法可高收率且高纯度地制得通式(I)的呋喃并吡咯。
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公开(公告)号：CN1771546A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200480009400.3
申请日：2004-02-25
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
Abstract: 本发明涉及了包括基材、反射层和记录层的光学记录介质，其中记录层包括式[L1Mr-4L2]o[Am－]p[Zn+]q(I)、[L1Mr－3L3]o[Am－]p[Zn+]q(II)或[L3Mr－2L4]o[Am－]p[Zn+]q(III)的化合物，或可使用的上述化合物的内消旋形式或者互变异构形式，其中L1和L2各自独立，和L3和L4各自独立；其中Q1为CR1或N，Q2为O、S、NR10或Q5＝Q8，Q3是CR3或N，Q4是O、S、NR10或Q7＝Q8，Q5是CR5或N，Q6是CR6或N、Q7是CR7或N，Q8是CR8或N，并且Q9是O、S、NR10或Q6＝Q8；Mr、Am－、Zn+、R2和R9如权利要求中的定义。
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公开(公告)号：CN1553912A
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN02817586.7
申请日：2002-09-03
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: C07D487/04 , C07D491/04 , C09K11/06 , C09B57/00
CPC classification number: C07D487/04 , C07D491/04 , C09B57/004 , C09B67/0039 , C09K11/06 , C09K2211/1011 , C09K2211/1033 , C09K2211/1044
Abstract: 本发明涉及制备式(I)二酮吡咯并吡咯的制备方法，其中A1、A2、A3和A4在本发明说明书中定义，还涉及通过所述方法获得的通式(I)的新二酮吡咯并吡咯、通式(I)的新二酮吡咯并吡咯在生产油墨、着色剂、用于涂层的有色塑料、无压印刷物质、彩色滤光片、化妆品、聚合油墨颗粒、调色剂、染料激光器和电致发光装置中的用途，或者用作免疫测定的荧光标记和液体泄漏检测的荧光示踪剂。此外本发明涉及通式(II)的二酮吡咯并吡咯类似物，其中A1、A2和A3在本发明说明书中定义，它为制备式(I)二酮吡咯并吡咯方法的中间体，并且可以用作晶体生长调节剂。
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