公开(公告)号：CN100585811C

公开(公告)日：2010-01-27

申请号：CN200810018341.6

申请日：2008-05-30

Applicant: 西安电子科技大学

Inventor： 郭辉 ,  程萍 ,  张玉明 ,  张义门 ,  廖宇龙

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/60

Abstract: 本发明公开了一种半绝缘SiC半导体器件的欧姆接触制作方法，主要解决欧姆接触的比接触电阻大的问题。其过程是：对SiC衬底进行预处理，并在SiC衬底上外延GaN重掺杂层或SiC:Ge过渡层；在GaN重掺杂层或SiC:Ge过渡层上确定欧姆接触区域，并对欧姆接触区域之间的GaN重掺杂或SiC:Ge过渡层区进行KOH刻蚀，使该沟道区的SiC衬底为Si面；在欧姆接触区域上和所述沟道区的Si面上，淀积一层高介电常数的SiN材料；刻蚀掉欧姆接触区域上的SiN材料，并在该区域淀积金属，引出电极。本发明具有比接触电阻和方块电阻低，使用寿命长的优点，可用于对半绝缘SiC半导体器件的欧姆接触制作。

公开(公告)号：CN101315887A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200810018341.6

申请日：2008-05-30

Applicant: 西安电子科技大学

Inventor： 郭辉 ,  程萍 ,  张玉明 ,  张义门 ,  廖宇龙

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/60

Abstract: 本发明公开了一种半绝缘SiC半导体器件的欧姆接触制作方法，主要解决欧姆接触的比接触电阻大的问题。其过程是：对SiC衬底进行预处理，并在SiC衬底上外延GaN重掺杂层或SiC∶Ge过渡层；在GaN重掺杂层或SiC∶Ge过渡层上确定欧姆接触区域，并对欧姆接触区域之间的GaN重掺杂或SiC∶Ge过渡层区进行KOH刻蚀，使该沟道区的SiC衬底为Si面；在欧姆接触区域上和所述沟道区的Si面上，淀积一层高介电常数的SiN材料；刻蚀掉欧姆接触区域上的SiN材料，并在该区域淀积金属，引出电极。本发明具有比接触电阻和方块电阻低，使用寿命长的优点，可用于对半绝缘SiC半导体器件的欧姆接触制作。