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公开(公告)号:CN114171671A
公开(公告)日:2022-03-11
申请号:CN202111263405.0
申请日:2021-10-28
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: H01L41/18 , H01L41/335 , H01L41/37
Abstract: 本发明提供的一种易剥离高结晶质量的铝钪氮薄膜及其制备方法,本发明使用溅射方法、MOCVD方法或MBE方法在转移在蓝宝石的二维BN层上生长AlScN薄膜,提高了可剥离性,并通过高温退火工艺提高了材料的质量,因此本发明的易剥离高结晶质量的铝钪氮薄膜可用于滤波器设备中。
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公开(公告)号:CN115036380B
公开(公告)日:2023-12-08
申请号:CN202210441468.9
申请日:2022-04-25
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/0304 , H01L31/105 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了一种pin结构的日盲型紫外探测器及其制备方法,包括:衬底、n型氧化镓层、n型欧姆电极、i型氧化镓层、p‑AlGaN/h‑BN超晶格层、p型氮化镓层和p型欧姆电极;n型氧化镓层位于衬底上;i型氧化镓层和n型欧姆电极均位于n型氧化镓层上,i型氧化镓层和n型欧姆电极之间间隔设置;p‑AlGaN/h‑BN超晶格层位于i型氧化镓层上,p型氮化镓层位于p‑AlGaN/h‑BN超晶格层上;p型欧姆电极位于p型氮化镓层上。本发明的P型超晶格层能够有效地提供空穴,高掺杂的p型GaN层可以与金属电极形成良好的欧姆接触,使得探测器的响应时间变短、量子效率以及光谱(56)对比文件Matthew Whiteside et al.Demonstrationof vertically-ordered h-BN/AlGaN/GaNmetal-insulator-semiconductor high-electron-mobility transistors on Sisubstrate 《.Materials Science andEngineering B》.2021,第270卷(第0921-5107期),全文.赖黎;莫慧兰;符思婕;毛彦琦;王加恒;范嗣强.氧化镓微晶薄膜制备及其日盲深紫外探测器.发光学报.2020,(09),全文.
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公开(公告)号:CN113817982A
公开(公告)日:2021-12-21
申请号:CN202110831683.5
申请日:2021-07-22
Applicant: 西安电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种易剥离高结晶质量的氮化铝薄膜的制备方法,包括:对铜衬底进行加热预处理;在预处理后的铜衬底上生长二维BN层;将所述二维BN层从所述铜衬底上转移至蓝宝石衬底上;利用磁控溅射方法,在所述二维BN层上生长一层氮化铝材料,形成三层结构;对所述三层结构进行高温退火处理,以提高所述三层结构上的所述氮化铝材料的结晶质量;使用胶带将所述氮化铝材料从所三层结构上进行剥离,得到制备完成的氮化铝薄膜。本发明可以在保证结晶质量的同时提高氮化铝薄膜的可剥离性。
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公开(公告)号:CN115036380A
公开(公告)日:2022-09-09
申请号:CN202210441468.9
申请日:2022-04-25
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/0304 , H01L31/105 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了一种pin结构的日盲型紫外探测器及其制备方法,包括:衬底、n型氧化镓层、n型欧姆电极、i型氧化镓层、p‑AlGaN/h‑BN超晶格层、p型氮化镓层和p型欧姆电极;n型氧化镓层位于衬底上;i型氧化镓层和n型欧姆电极均位于n型氧化镓层上,i型氧化镓层和n型欧姆电极之间间隔设置;p‑AlGaN/h‑BN超晶格层位于i型氧化镓层上,p型氮化镓层位于p‑AlGaN/h‑BN超晶格层上;p型欧姆电极位于p型氮化镓层上。本发明的P型超晶格层能够有效地提供空穴,高掺杂的p型GaN层可以与金属电极形成良好的欧姆接触,使得探测器的响应时间变短、量子效率以及光谱响应度提升。
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公开(公告)号:CN217822826U
公开(公告)日:2022-11-15
申请号:CN202220988730.7
申请日:2022-04-25
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: H01L31/036 , H01L31/0304 , H01L31/105 , H01L31/18
Abstract: 本实用新型公开了一种p‑BN/i‑Ga2O3/n‑Ga2O3的日盲型紫外探测器,包括:衬底、n型Ga2O3层、i型Ga2O3层、p型BN层、n型欧姆电极和p型欧姆电极;n型Ga2O3层位于衬底上;i型Ga2O3层和n型欧姆电极均位于n型Ga2O3层上,i型Ga2O3层和n型欧姆电极之间间隔设置;p型BN层位于i型Ga2O3层上;p型欧姆电极位于p型BN层上;其中,p型BN层采用纤锌矿型氮化硼材料,且p型BN层厚度为50‑100nm。本实用新型通过采用纤锌矿型氮化硼作为p型层,使得p型掺杂激活能只有31meV,可以使得p型BN层较易实现1×1018cm‑3以上的空穴浓度,使得P型氮化硼材料的电阻率可以降到12Ω.cm以下,由于p型BN层能够有效地提供空穴并与金属电极形成良好的欧姆接触,使得探测器的响应时间缩短、量子效率以及光谱响应度提升。
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