一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构

    公开(公告)号:CN215940476U

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202122342780.6

    申请日:2021-09-27

    Abstract: 本实用新型涉及一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构,主要包括包括匀胶腔外腔体结构、匀胶头机构、支架机构,本实用新型背胶保护罩一方面起到机械防护的作用,另一方面通过注入氮气,在背胶保护罩与芯片之间形成微正压环境,氮气气流从背胶保护罩下面进入,从背胶保护罩与芯片之间的缝隙排出,对胶丝起到吹扫作用,做到了双重防护功能。配合匀胶头机构的取片和匀胶两个工作状态,通过芯片背面的保护罩机械保护和氮气保护双重保护功能,实现了芯片在匀光刻胶的过程中背胶保护功能,彻底解决了背胶玷污问题,摆脱了工艺返工,节约人工和材料,提高了工艺质量,本实用新型既可以实现涂甩光刻胶的基本功能,同时又能实现背胶防溅保护功能,达到工艺目的。

    鼓泡式酸碱废气处理器
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN208389730U

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201820546148.9

    申请日:2018-04-17

    Inventor: 马宁强 陈涛

    Abstract: 本实用新型是一种鼓泡式酸碱废气处理器,包括玻璃钢箱体、防腐引风机、钢制机架、多支管交换器、PVC风管,玻璃钢处理箱与风机组合在一起,利用鼓泡工作方式,采取溶液吸收原理,废气从入口吸入,经过多管路多孔交换器使废气从吸收液中通过,在充分的物理吸收和化学吸收双重作用下将污染物吸收在溶液中,净化过的气体经风机从排风管达标排出。本实用新型安装灵活,可独立控制运行,已应用在半导体工艺线腐蚀清洗工艺设备的废气处理系统中,经检测各项排放数据,达到优于90%的处理能力,是解决排放不稳定、间歇工作、种类多等复杂排放工况下的酸碱废气高效治理设施。

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