一种二维氧掺杂GaSe纳米片的制备方法及应用

    公开(公告)号:CN115385309B

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202211135345.9

    申请日:2022-09-19

    Abstract: 本发明涉及材料制备技术领域,公开了一种二维氧掺杂GaSe纳米片的制备方法及应用,包括以下步骤:步骤1:将GaSe粉末置于溶剂中,超声处理;步骤2:在步骤1得到的溶液中滴加H2O2;其中GaSe粉末和H2O2的比例为4:1;步骤3:滴加完成后超声处理,离心得到含二维氧掺杂GaSe纳米片;本发明得到的氧掺杂GaSe纳米片制备得到的气敏传感器件,在UV光激发条件下实现了室温下的可逆传感,其具有较低的NO2检测极限,较快的气敏响应和恢复速度以及优异的气体选择性。

    一种二维氧掺杂GaSe纳米片的制备方法及应用

    公开(公告)号:CN115385309A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211135345.9

    申请日:2022-09-19

    Abstract: 本发明涉及材料制备技术领域,公开了一种二维氧掺杂GaSe纳米片的制备方法及应用,包括以下步骤:步骤1:将GaSe粉末置于溶剂中,超声处理;步骤2:在步骤1得到的溶液中滴加H2O2;其中GaSe粉末和H2O2的比例为4:1;步骤3:滴加完成后超声处理,离心得到含二维氧掺杂GaSe纳米片;本发明得到的氧掺杂GaSe纳米片制备得到的气敏传感器件,在UV光激发条件下实现了室温下的可逆传感,其具有较低的NO2检测极限,较快的气敏响应和恢复速度以及优异的气体选择性。

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