中空原子力探针加工方法、系统及中空原子力探针

    公开(公告)号:CN119973388A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202411986294.X

    申请日:2024-12-31

    Abstract: 本发明提供了一种中空原子力探针加工方法、系统和中空原子力探针,通过激光,对待加工探针第一加工区域内流道和第二加工区域内流道分别进行辐照加工,从而在探针内形成连通的流道。本发明的中空原子力探针加工方法利用了激光的高效、高能、高精度及冷加工的优势,在使用中可以迅速准确地完成流道的加工,在探针中生成高精度和高纵横比的流道,避免了现有技术中的中空原子力探针加工方法无法适应对于中空原子力探针的精度和纵横比需求的技术问题。

    一种基于超快激光表面改性的定域电化学沉积方法

    公开(公告)号:CN116446004A

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202310480459.5

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明属于定域电化学沉积领域,具体涉及一种基于超快激光表面改性的定域电化学沉积方法,包括以下步骤:1)根据预制图形结构,利用超快激光在基底样品表面诱导图形化结构,形成激光作用区;2)超快激光作用后的基底样品置于电化学沉积环境下进行电镀反应,在激光作用区实现定域电化学沉积。本发明提供的基于超快激光表面改性的定域电化学沉积方法,将超快激光改性与定域电沉积相结合,沉积工艺简单、效率高,能实现大面积沉积。

    一种用于多芯光纤布拉格光栅激光直写的夹持装置

    公开(公告)号:CN115327694A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202210335027.0

    申请日:2022-03-31

    Abstract: 本申请公开了一种用于多芯光纤布拉格光栅激光直写的夹持装置,属于光纤加工领域。装置的固定架包括一块固定板、两块端板和两块支撑台;固定板的两端分别设置一块端板,且端板的表面与固定板的表面垂直,以使固定架的内部形成放置空间;两块支撑台位于放置空间内,一端均与固定板固定;固定板的背离放置空间的一侧设置于三维运动机构上;放置台两端分别设置于两块支撑台上,多芯光纤放置于放置台的狭缝所在位置且其延伸方向与放置台的长度方向平行;两块端板在靠近放置空间的一侧均设置一个旋转机构,旋转机构用于夹持多芯光纤的两端,并能够带动多芯光纤沿其自身轴线旋转。本装置能够在多芯光纤布拉格光栅激光直写时实现高精度定位及调控功能。

    一种无基底超薄功能薄膜材料及制备方法

    公开(公告)号:CN112960657A

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202110150339.X

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本发明属于功能薄膜器件技术领域,公开了一种无基底超薄功能薄膜材料及制备方法,通过化学或物理刻蚀的方式将蒸镀、溅射、沉积在基底材料上的薄膜分离出来,然后在液体环境中将薄膜材料转载到带有中间孔的基片上,进而在基片的中孔区域形成无基底的功能薄膜材料。本发明在制备薄膜材料时具有可重复性,通过重复转载工艺可以实现多层无基底超薄功能薄膜的制备,并且可以调控薄膜之间的旋转角度。解决了功能薄膜材料离开基底难以稳定存在的难题,可广泛应用于分子筛选、离子过滤、强场物理中的固体密度等离子体靶的制备当中;广泛适用于沉积在各种基底上的各种薄膜材料,只需要根据基底材料的不同改变刻蚀液的配比。

    一种光栅调控偏振探测器、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN118712276A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410879564.0

    申请日:2024-07-02

    Abstract: 本发明涉及一种微电子技术领域,具体涉及一种光栅调控偏振探测器、制备方法及应用,首先选择在透明导电衬底上通过激光直写技术刻蚀形成衬底光栅结构,随后再通过溶液法将活性层与衬底光栅的外表面贴合,由于旋涂厚度均匀,从而使活性层表面形成与衬底光栅结构匹配的目标光栅结构,进而能够在活性层的上端面直接形成需要的光栅结构;通过该方式制备的偏振探测器避免对活性层直接进行加工,保证活性层表面完好,提高偏振探测器的偏振特性、长期稳定性以及光响应特性;而且通过激光在透明导电衬底上加工衬底光栅结构,进一步实现活性层上大面积、短周期微纳光栅结构的形成,满足实际使用需求。

    一种机轮刹车热库的散热控制方法及机轮刹车热库

    公开(公告)号:CN118328098A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410427036.1

    申请日:2024-04-10

    Abstract: 本发明一种机轮刹车热库的散热控制方法及机轮刹车热库,属于航空机轮刹车领域;方法步骤为:获取待散热刹车热库的初始状态信息;建立刹车能量和刹车热库体容温度之间的关系;计算单次派遣的真实热库刹车能量;计算单次派遣能够达到的真实热库刹车能量的对应温度;计算派遣需要耗散的总热量;计算单次派遣单位时间内需要耗散的热量;计算得到刹车热库的总换热面积;基于刹车热库的总换热面积对散热通道进行设计,进而实现对散热时间和效果的控制。本发明解决了现有技术中无法对刹车散热时间和效果进行控制的问题。

    一种产生球形聚焦光斑的方法及光学系统

    公开(公告)号:CN116594184A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202310345922.5

    申请日:2023-04-03

    Abstract: 本发明提出了一种产生球形聚焦光斑的方法及光学系统,属于光学成像技术领域,其方法包括:1)折射掩膜版将入射激光束分割成不同区域,并将不同区域的光基于折射原理进行偏转;2)聚焦镜将偏转后的光成像至焦平面的不同位置,形成球形聚焦光斑。本发明基于折射性掩膜版的折射原理和聚焦镜的成像原理实现焦点强度的调控,在焦平面处呈现出球形对称的单光束焦斑,即球形聚焦光斑,整个方法操作简单,具有通用性和普适性,在激光三维制造技术、显微成像技术和激光测量技术方面具有重要的使用推广意义。

    一种基于超快激光选区剥蚀掩膜的定域电沉积方法

    公开(公告)号:CN116479486A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310480510.2

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明属于电沉积技术领域,涉及一种基于超快激光选区剥蚀掩膜的定域电沉积方法,包括以下步骤:1)基底材料预处理,2)镀膜,在预处理后的基底材料上沉积绝缘薄膜层;3)激光选区除膜,根据待沉积图案,利用超快激光在基底材料上进行图形化选区,剥蚀图形化选区的绝缘薄膜层;4)电沉积,将剥蚀后的基底材料置于电化学沉积环境中进行电镀,在基底材料的选区上沉积出三维微结构。本发明提供一种基于超快激光选区剥蚀掩膜的定域电沉积方法,工艺简单、电沉积效率高、能容易沉积出三维结构;通过循环重复,实现立体、多层、多种材料在基底材料上的沉积。

    一种无基底超薄功能薄膜材料及制备方法

    公开(公告)号:CN112960657B

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202110150339.X

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本发明属于功能薄膜器件技术领域,公开了一种无基底超薄功能薄膜材料及制备方法,通过化学或物理刻蚀的方式将蒸镀、溅射、沉积在基底材料上的薄膜分离出来,然后在液体环境中将薄膜材料转载到带有中间孔的基片上,进而在基片的中孔区域形成无基底的功能薄膜材料。本发明在制备薄膜材料时具有可重复性,通过重复转载工艺可以实现多层无基底超薄功能薄膜的制备,并且可以调控薄膜之间的旋转角度。解决了功能薄膜材料离开基底难以稳定存在的难题,可广泛应用于分子筛选、离子过滤、强场物理中的固体密度等离子体靶的制备当中;广泛适用于沉积在各种基底上的各种薄膜材料,只需要根据基底材料的不同改变刻蚀液的配比。

    一种微纳结构加工方法、系统及微纳结构

    公开(公告)号:CN119733955A

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202411986287.X

    申请日:2024-12-31

    Abstract: 本发明提供了一种微纳结构加工方法、系统及微纳结构,通过超快激光对固定在加工台上的待加工件进行微纳结构直写,从而在半成品表面上形成微纳结构,获得半成品,此时的半成品表面上具有边界改性层、喷溅的材料和粗糙结构,通过离子束抛光处理,以物理轰击的物理抛光法,对半成品表面进行抛光,消除半成品表面的边界改性层、喷溅的材料和粗糙结构,且不会产生新的物质层。本发明中将超快激光和离子束抛光技术进行结合,利用超快激光便捷地在待加工件表面加工出精细微纳结构,又利用离子束抛光手段,使成品表面平整光滑,且避免了现有技术中采用化学刻蚀导致产生变质层,改变微纳结构的几何特征,影响结构精度的技术问题。

Patent Agency Ranking