公开(公告)号：CN112959005B

公开(公告)日：2023-01-24

申请号：CN202110150007.1

申请日：2021-02-03

Applicant: 西北工业大学

Inventor： 程光华 ,  娄睿 ,  张国栋 ,  王江

IPC: B23P15/00 ,  B23K26/352 ,  C23C14/35 ,  C23C14/10

Abstract: 本发明属于高导热介质技术领域，公开了一种在铜表面制造长期高效减反微纳结构的方法，包括：将紫铜和/或铜单质样品进行抛光处理；将抛光后样品置于激光加工平台，使用脉冲激光对其进行预设的路径扫描，获得具有微纳复合结构的样品表面，将其封装进真空袋中；将得到的样品置于磁控溅射设备的样品炉内，在微纳结构表面生长一层二氧化硅保护膜，获得长期高效的长期高效减反微纳结构。本发明在铜表面制备出具有减反特性的微纳结构，其后通过镀膜的方法在微纳结构表面生长一层惰性薄膜进行保护，使其具备长期高效的减反功能特性；通过控制磁控溅射的镀膜时间，灵活控制二氧化硅保护层的厚度，提供强度性能的保护层，有效解决铜表面减反结构失效问题。

公开(公告)号：CN112959005A

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN202110150007.1

申请日：2021-02-03

Applicant: 西北工业大学

Inventor： 程光华 ,  娄睿 ,  张国栋 ,  王江

IPC: B23P15/00 ,  B23K26/352 ,  C23C14/35 ,  C23C14/10

Abstract: 本发明属于高导热介质技术领域，公开了一种在铜表面制造长期高效减反微纳结构的方法，包括：将紫铜和/或铜单质样品进行抛光处理；将抛光后样品置于激光加工平台，使用脉冲激光对其进行预设的路径扫描，获得具有微纳复合结构的样品表面，将其封装进真空袋中；将得到的样品置于磁控溅射设备的样品炉内，在微纳结构表面生长一层二氧化硅保护膜，获得长期高效的长期高效减反微纳结构。本发明在铜表面制备出具有减反特性的微纳结构，其后通过镀膜的方法在微纳结构表面生长一层惰性薄膜进行保护，使其具备长期高效的减反功能特性；通过控制磁控溅射的镀膜时间，灵活控制二氧化硅保护层的厚度，提供强度性能的保护层，有效解决铜表面减反结构失效问题。