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公开(公告)号:CN115863312A
公开(公告)日:2023-03-28
申请号:CN202211012309.3
申请日:2022-08-23
Applicant: 英特尔公司
IPC: H01L23/538 , H01L23/498 , H01L21/48 , H01L21/768
Abstract: 本发明的主题是“产生具有纳米粗糙化互连的集成电路封装的方法、系统、设备和制品”。公开了用来产生纳米粗糙化的集成电路封装的方法、系统、设备和制品。示例集成电路(IC)封装包括衬底、半导体管芯和用来将半导体管芯电耦合到衬底的金属互连,金属互连包括纳米粗糙化的表面。
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公开(公告)号:CN119836691A
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202380063046.5
申请日:2023-08-03
Applicant: 英特尔公司
IPC: H01L25/065 , H01L23/538 , H01L23/498 , H01L23/66 , H01L23/15 , H01L25/18 , H10B80/00
Abstract: 微电子组件的实施例包括:玻璃的中介层结构;包括有机电介质材料的衬底,所述衬底耦合到所述中介层结构的第一侧;以及多个IC管芯。所述多个IC管芯中的第一IC管芯通过第一互连件耦合到所述衬底,所述多个IC管芯中的第二IC管芯嵌入所述衬底的有机电介质材料中,所述第二IC管芯通过第二互连件耦合到所述第一IC管芯,所述第二IC管芯通过第三互连件耦合到所述中介层结构的第一侧,并且所述多个IC管芯中的第三IC管芯通过第四互连件耦合到所述中介层结构的第二侧,所述中介层结构的第二侧与所述中介层结构的第一侧相对。
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公开(公告)号:CN115863300A
公开(公告)日:2023-03-28
申请号:CN202211012308.9
申请日:2022-08-23
Applicant: 英特尔公司
IPC: H01L23/498 , H01L23/538 , H01L21/48 , H01L21/768
Abstract: 本文中公开的实施例包括电子封装以及形成此类电子封装的方法。在实施例中,电子封装包括多个堆叠层。在实施例中,第一迹线在第一层上,其中,第一迹线具有第一厚度。在实施例中,第二迹线在第一层上,其中,第二迹线具有大于第一厚度的第二厚度。在实施例中,第二层在第一迹线和第二迹线之上。
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