一种背光模组中的导光组件结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN101162278A

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200710135196.5

    申请日:2007-11-13

    Abstract: 本发明公开了一种背光模组中的导光组件结构,包括导光基材以及导光基材表面制备形成的导光网点结构,其特征在于:包括至少两层导光基材重叠组合构成,每层所述导光基材为厚度50um~150um的导光膜;各层所述基材上的导光网点结构分布位置相互互补;其制作方法:(1)根据LED光源的厚度与导光薄膜材料厚度,确定多层组合的层数;(2)根据LED光源亮度数据及发光面积,确定初始的导光网点分布;(3)根据步骤(2)数据及布点方式进行相应调整;(4)制作相应导光模仁小样;(5)制作各层导光膜,并进行组装。本发明充分利用了LED光源能量,并有效地提高了发光均匀度,多层重叠结构获得更好的触感。

    一种亚波长埋入式光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101377555B

    公开(公告)日:2011-05-04

    申请号:CN200810156773.3

    申请日:2008-09-26

    Abstract: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层,在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用,又可以起到保护金属层的作用,防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏;在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。

    一种具有像面全息结构的投影屏

    公开(公告)号:CN101034252A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200710039274.1

    申请日:2007-04-10

    Abstract: 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏,其特征在于:在投影屏幕主体上附着有像面全息信息,所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构,定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L,在水平方向为短径W,则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点,对环境的要求不高,适合高端的消费场所使用;也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。

    一种具有像面全息结构的投影屏

    公开(公告)号:CN100474101C

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200710039274.1

    申请日:2007-04-10

    Abstract: 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏,其特征在于:在投影屏幕主体上附着有像面全息信息,所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构,定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L,在水平方向为短径W,则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点,对环境的要求不高,适合高端的消费场所使用;也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。

    一种亚波长埋入式光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101377555A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200810156773.3

    申请日:2008-09-26

    Abstract: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层,在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用,又可以起到保护金属层的作用,防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏;在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。

    一种衍射变色激光打标方法与装置

    公开(公告)号:CN101135776A

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN200710153957.X

    申请日:2007-09-13

    Abstract: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置,采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源,激光束满足干涉要求,由分束元件产生分束光,通过光学透镜组将光点会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值,以形成干涉条纹刻蚀,通过扫描控制,实现衍射光变色图形的打标。所述的装置,采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头,形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应,提高图像的分辨率;获得衍射变色的激光打标图样。

    对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置

    公开(公告)号:CN1821883A

    公开(公告)日:2006-08-23

    申请号:CN200610037797.8

    申请日:2006-01-12

    Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法,采用大功率激光器作为光源,将激光束准直成平行光,经过光阑及透镜后,由分束元件产生分束光束,再会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作,其特征在于:所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频,所述光阑为可调矩形光阑,在同一位置进行单次脉冲加工,控制激光器的功率,使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化,在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统,从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段,是一种微米级结构的先进制造技术。

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